特許
J-GLOBAL ID：201603006162919090
パターン形成方法、及び電子デバイスの製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
代理人 (2件)：
高松 猛
, 尾澤 俊之
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-017949
公開番号（公開出願番号）：特開2014-149409
特許番号：特許第6031369号
出願日： 2013年01月31日
公開日（公表日）： 2014年08月21日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 (ア)感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物によって膜を形成する工程、
(イ)該膜を露光する工程、及び
(ウ)該露光された膜を、現像液を用いて現像してパターンを形成する工程を有するパターン形成方法であって、
前記工程(ウ)が、該露光された膜を、有機溶剤を含む現像液を用いて現像してネガ型のパターンを形成する工程であり、
前記感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物が、(A)酸の作用により分解し、極性基を生じる基を有する樹脂と、化合物(C1)及び化合物(C2)の少なくとも1つと、を含有する、感活性光線性又は感放射線性樹脂組成物であり、
前記化合物(C1)は、活性光線又は放射線の照射により第1の酸性官能基を発生する基と、活性光線又は放射線の照射により、前記第1の酸性官能基とは異なる第2の酸性官能基を発生する基とを有する化合物であり、
前記化合物(C2)は、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(a)で表される構造を発生する基と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(b)で表される構造を発生する基と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(c)で表される構造を発生する基と、活性光線又は放射線の照射により下記一般式(d)で表される構造を発生する基とからなる群より選ばれる2種以上の基を有する化合物であり、
前記化合物(C1)は、活性光線又は放射線の照射により、前記第1の酸性官能基及び前記第2の酸性官能基として、下記式(Ca-1)〜(Ca-19)で表される基からなる群より選ばれる互いに異なる基を発生する化合物であり、
前記化合物(C2)は、活性光線又は放射線の照射により、下記一般式(a)におけるA1、下記一般式(b)におけるA2、下記一般式(c)におけるA1’及び下記一般式(d)におけるA2’として、下記式(Ca-1)〜(Ca-19)で表される基からなる群より選ばれる互いに同一の基を発生する化合物である、
パターン形成方法。
一般式(a)、(b)、(c)及び(d)中、
A1、A2、A1’及びA2’は、同一の酸性官能基を表す。
Ra、Rb、Rc及びRdは、それぞれ独立に、水素原子又は置換基を表す。
Q1及びQ2は、環状基を表す。
ただし、一般式(a)で表される構造と一般式(b)で表される構造とは異なり、一般式(c)で表される構造と一般式(d)で表される構造とは異なる。
*は結合手を表す。
一般式(Ca-2)〜(Ca-4)、(Ca-6)〜(Ca-10)、(Ca-12)〜(Ca-16)、(Ca-18)及び(Ca-19)中、R8、R9、R11及びR14〜R26は、それぞれ独立にアルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。R10は、水素原子、アルキル基、シクロアルキル基又はアリール基を表す。R12及びR13は、それぞれ独立に、水素原子、アルキル基、アリール基、又は分子内のいずれかの原子と結合して環を形成する単結合、アルキレン基又はアリーレン基を表す。
IPC (4件)：
G03F 7/004 ( 200 6.01)
, G03F 7/039 ( 200 6.01)
, G03F 7/038 ( 200 6.01)
, G03F 7/32 ( 200 6.01)
G03F 7/004 503 A
, G03F 7/039 601
, G03F 7/038 601
, G03F 7/32
