特許
J-GLOBAL ID:201703001859566663

光学素子、光学薄膜形成装置、及び光学薄膜形成方法

発明者:
出願人/特許権者:
代理人 (1件): 特許業務法人ウィルフォート国際特許事務所
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2013-551864
特許番号:特許第6053179号
出願日: 2012年12月28日
請求項(抜粋):
【請求項1】 処理室を有し、曲面状表面を有する被成膜材に光学薄膜を前記処理室において形成する光学薄膜形成装置において、 前記処理室内の空気を排気する排気部と、 真空状態に保持された前記処理室内に活性ガスおよび不活性ガスを供給するガス供給部と、 前記処理室内に設けられ、前記被成膜材が配置される配置部と、 前記処理室内において前記配置部に対向配置されたターゲットと、 前記ターゲットの粒子であるターゲット粒子が出るよう前記ターゲットに電圧を印加する電源と、 前記処理室内に、前記処理室内の空間の一部分であって前記ターゲットと前記配置部との間の空間である特定空間を取り囲むことで、ガス粒子を跳ね返し、前記ターゲット粒子、または、前記活性ガスと反応した前記ターゲット粒子である化合物粒子を、前記被成膜材の前記曲面状表面に堆積させることが可能に設けられている遮蔽部と、 を備える、光学薄膜形成装置。
IPC (3件):
G02B 1/115 ( 201 5.01) ,  C23C 14/34 ( 200 6.01) ,  C23C 14/08 ( 200 6.01)
FI (3件):
G02B 1/115 ,  C23C 14/34 S ,  C23C 14/08 N
引用特許:
出願人引用 (11件)
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審査官引用 (11件)
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