特許
J-GLOBAL ID：201703006572175495
マイクロミラーデバイスの製造方法
発明者：
,
,
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
酒井 宏明
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2012-232269
公開番号（公開出願番号）：特開2014-085409
特許番号：特許第6046443号
出願日： 2012年10月19日
公開日（公表日）： 2014年05月12日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 シリコン基板の少なくとも表面に酸化シリコン膜を形成する酸化シリコン膜形成工程と、
前記酸化シリコン膜上に平坦化したシリコン膜を形成するシリコン膜形成工程と、
前記シリコン膜を前記酸化シリコン膜に達するまで貫通エッチングし、前記酸化シリコン膜上にマイクロミラーデバイス構造を形成するデバイス形成工程と、
少なくとも前記マイクロミラーデバイス構造の内部貫通部を跨ぐ前記シリコン膜の一部を、前記内部貫通部を一時補強する一時補強シリコン部として残して、前記シリコン基板を裏面からエッチングする裏面エッチング工程と、
前記酸化シリコン膜をエッチングして、前記一時補強シリコン部を除去し、マイクロミラーデバイス構造をリリースする除去工程と、
を含むことを特徴とするマイクロミラーデバイスの製造方法。
IPC (3件)：
G02B 26/08 ( 200 6.01)
, G02B 26/10 ( 200 6.01)
, B81C 1/00 ( 200 6.01)
G02B 26/08 E
, G02B 26/10 104 Z
, B81C 1/00
出願人引用 (10件)
全件表示
審査官引用 (6件)
全件表示
前のページに戻る
