特許
J-GLOBAL ID：201703007853457666
X線反射装置及びその製造方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (6件)：
辻居 幸一
, 熊倉 禎男
, 大塚 文昭
, 西島 孝喜
, 須田 洋之
, 上杉 浩
公報種別：特許公報
出願番号（国際出願番号）：特願2013-014320
公開番号（公開出願番号）：特開2014-145659
特許番号：特許第6172433号
出願日： 2013年01月29日
公開日（公表日）： 2014年08月14日
請求項（抜粋）：
【請求項1】 一方の面から他方の面へ貫通する穴を複数有し、当該穴の側壁をX線反射面として使用するシリコン基板であって、当該一方の面又は他方の面のいずれか一方の面のみに金属薄膜を鍍金し、当該鍍金した薄膜の応力により湾曲したシリコン基板を含むことを特徴とするX線反射装置。
IPC (4件)：
G21K 1/06 ( 200 6.01)
, G21K 7/00 ( 200 6.01)
, G21K 1/00 ( 200 6.01)
, G01T 1/29 ( 200 6.01)
G21K 1/06 D
, G21K 7/00
, G21K 1/06 B
, G21K 1/00 X
, G01T 1/29 C
