特許
J-GLOBAL ID:201803009634635036
検査及びメトロロジのための方法及び装置
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (4件):
稲葉 良幸
, 大貫 敏史
, 江口 昭彦
, 内藤 和彦
公報種別:公表公報
出願番号(国際出願番号):特願2018-517358
公開番号(公開出願番号):特表2018-531422
出願日: 2016年09月21日
公開日(公表日): 2018年10月25日
要約:
ターゲットによって再誘導される測定放射の複数の放射分布を取得することであって、複数の放射分布の各々は、ターゲットと測定装置の光学要素との間の異なるギャップ距離で取得され、光学要素は、測定放射をターゲットに提供するために使用されるターゲットに最も近い光学要素であることと、測定ターゲットを記述する数学モデルと共に複数の放射分布のデータを使用して、ターゲットに関するパラメータを決定することと、を含む、方法。【選択図】図6
請求項(抜粋):
ターゲットによって再誘導される測定放射の複数の放射分布を取得することであって、前記複数の放射分布の各々は、前記ターゲットと測定装置の光学要素との間の異なるギャップ距離で取得され、前記光学要素は、前記測定放射を前記ターゲットに提供するために使用される前記ターゲットに最も近い前記光学要素であることと、
前記測定ターゲットを記述する数学モデルと共に前記複数の放射分布のデータを使用して、前記ターゲットに関するパラメータを決定することと、
を含む、方法。
IPC (4件):
G03F 9/00
, G03F 7/20
, H01L 21/027
, G01B 11/02
FI (4件):
G03F9/00 H
, G03F7/20 521
, H01L21/30 502D
, G01B11/02 H
Fターム (54件):
2F065AA22
, 2F065AA23
, 2F065BB02
, 2F065BB27
, 2F065CC17
, 2F065FF01
, 2F065FF42
, 2F065GG24
, 2F065HH03
, 2F065HH09
, 2F065HH12
, 2F065JJ03
, 2F065JJ08
, 2F065JJ26
, 2F065LL22
, 2F065PP12
, 2F065QQ21
, 2H197AA05
, 2H197AA09
, 2H197AA12
, 2H197BA11
, 2H197CA03
, 2H197CA06
, 2H197CA10
, 2H197CC05
, 2H197CD12
, 2H197CD13
, 2H197CD15
, 2H197CD17
, 2H197CD18
, 2H197CD43
, 2H197CD48
, 2H197DB10
, 2H197DB11
, 2H197DC02
, 2H197DC05
, 2H197DC08
, 2H197EA15
, 2H197EA17
, 2H197EA18
, 2H197EA25
, 2H197EB05
, 2H197EB16
, 2H197EB22
, 2H197EB23
, 2H197GA01
, 2H197HA03
, 2H197HA04
, 2H197HA05
, 2H197HA10
, 2H197JA17
, 2H197JA22
, 2H197JA27
, 5F146AA31
引用特許:
出願人引用 (7件)
-
リソグラフィマスク用の検査方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-212566
出願人:ケーエルエー-テンカーテクノロジィースコーポレイション
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近接場計測
公報種別:公表公報
出願番号:特願2015-520408
出願人:ケーエルエー-テンカーコーポレイション
-
両凸固体浸漬レンズ
公報種別:公表公報
出願番号:特願2003-562674
出願人:オプトニクス・インコーポレーテッド
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審査官引用 (10件)
-
リソグラフィマスク用の検査方法及び装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願2007-212566
出願人:ケーエルエー-テンカーテクノロジィースコーポレイション
-
反射マスク
公報種別:公開公報
出願番号:特願平3-294331
出願人:株式会社ニコン
-
特開昭53-096677
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