特許
J-GLOBAL ID：201803010070841828

リソグラフィ装置用基板テーブル、および基板の装填方法

発明者：
ヴァレフィ,マーディア

ヴァレフィ,マーディア について

, 
ラファーレ,レイモンド,ウィルヘルムス,ルイス

ラファーレ,レイモンド,ウィルヘルムス,ルイス について


出願人/特許権者：
エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ.

エーエスエムエル ネザーランズ ビー.ブイ. について


代理人 (4件)： 稲葉 良幸 ,  大貫 敏史 ,  江口 昭彦 ,  内藤 和彦
公報種別：公表公報
出願番号（国際出願番号）：特願2018-518722
公開番号（公開出願番号）：特表2018-533763
出願日： 2016年09月28日
公開日（公表日）： 2018年11月15日
要約：
リソグラフィ装置用基板テーブルは、第一基板支持面を画定する、複数の第一突出部と、第二基板支持面を画定する、複数の第二突出部とを含む。基板テーブルは、基板にクランプ力を及ぼすように構成されたクランプデバイスを更に含む。第二基板支持面は、第一基板支持面に平行である。第二基板支持面は、第一基板支持面と第二基板支持面とに直交する方向に、第一基板支持面に対してずらされている。リソグラフィ装置用基板テーブルは、クランプデバイスによりクランプ力を加える前に第二基板支持面における第二突出部上に基板を支持するように構成される。第二突出部は、クランプデバイスにより基板にクランプ力を加えると変形するように構成され、それにより、クランプデバイスにより基板がクランプされたときに基板を第二基板支持面から第一基板支持面に移動させる。【選択図】図2A
請求項（抜粋）：
基板を保持するように構築されたリソグラフィ装置用基板テーブルであって、 第一基板支持面を画定する、複数の第一突出部と、 第二基板支持面を画定する、複数の第二突出部と、 前記基板にクランプ力を及ぼすように構成されたクランプデバイスとを含み、 前記第二基板支持面が前記第一基板支持面に平行であり、前記第二基板支持面が、前記第一基板支持面と前記第二基板支持面とに直交する方向に前記第一基板支持面に対してずらされており、 前記リソグラフィ装置用基板テーブルが、前記クランプデバイスにより前記クランプ力を加える前に前記第二基板支持面における前記第二突出部上に前記基板を支持するように構成され、 第二突出部が、前記クランプデバイスにより前記基板に前記クランプ力を加えると変形するように構成され、それにより、前記クランプデバイスにより前記基板がクランプされたときに前記基板を前記第二基板支持面から前記第一基板支持面に移動させる、 リソグラフィ装置用基板テーブル。
IPC (2件)：
G03F 7/20 ,  H01L 21/683
FI (2件)：
G03F7/20 521 ,  H01L21/68 N
Fターム (30件)：
2H197AA05 ,  2H197AA12 ,  2H197CA03 ,  2H197CA05 ,  2H197CA06 ,  2H197CA08 ,  2H197CA09 ,  2H197CA10 ,  2H197CD02 ,  2H197CD05 ,  2H197CD06 ,  2H197CD12 ,  2H197GA01 ,  2H197GA17 ,  2H197HA03 ,  2H197HA04 ,  2H197HA05 ,  2H197HA10 ,  5F131AA02 ,  5F131BA13 ,  5F131CA02 ,  5F131CA18 ,  5F131EA02 ,  5F131EA22 ,  5F131EB01 ,  5F131EB11 ,  5F131EB54 ,  5F131EB58 ,  5F131EB78 ,  5F131EB79
引用特許：
審査官引用 (13件)
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