研究者
J-GLOBAL ID:202001013240891507   更新日: 2024年08月06日

藤田 隆

Fujita Takashi
所属機関・部署:
研究分野 (3件): 加工学、生産工学 ,  加工学、生産工学 ,  電子デバイス、電子機器
研究キーワード (4件): 半導体基板切断加工 ,  パッドコンディショニング技術 ,  マイクログルービング ,  化学的機械研磨
競争的資金等の研究課題 (5件):
  • 2023 - 2026 半導体復活のためにサプライチェーンを強化するブラシ型研削板によるCMPパッド研削技術の研究開発
  • 2022 - 2026 PCDブレードへの短パルスレーザドレッシングによる極細ダイシング加工技術の開発
  • 2022 - 2024 PCD極薄ブレードによるSiC基板の超微細カッティング技術の開発
  • 2020 - 2023 研磨パッド表面におけるスラリーの化学的・流体的挙動を考慮した制御機構の研究
  • 2021 - 2022 ファイバーコンディショナーによるCMPパッドコンディショニング技術の開発
論文 (46件):
  • Haruto Konishi, Takashi Fujita, Ryota Fukunaga, Yasuo Izumi, Junji Watanabe. Mirror-finishing technology for SiC substrates using PCD tools with high-density cutting edges. International Conference on Planarization Technology. 2023. P62-001-P62-004
  • Takuro Ito, Takashi Fujita, Kaito Yonemoto, Yuki Arai, Hiroyuki Hiyama, Yutaka Wada, Hozumi Yasuda, Ryota Koshino. Polishing Mechanism Based on Morphological and Chemical Quantification of Pad Surface in Chemical Mechanical Planarization. International Conference on Planarization Technology. 2023. O17-001-O17-008
  • Haruto KONISHI, Takashi FUJITA, Yasuo IZUMI, Kouji WATANABE, Daisuke YANAGIDA, Hisashi MINAMI, Junji WATANABE. Study of fine groove machining using PCD (Poly-Crystalline Diamond) blade tool. Proceedings of 19th International Conference on Precision Engineering. 2022. C055
  • Takuro ITO, Takashi FUJITA, Hirokuni HIYAMA, Yutaka WADA, Naoyuki HANDA. Study of Polishing Mechanism by Chemical Properties of Polishing Pad in Chemical-Mechanical Planarization. Proceedings of 19th International Conference on Precision Engineering. 2022. C056
  • Michio Uneda, Naoki Takahashi, Takashi Fujita, Yutaro Arai. Flexible Fiber Conditioner for Fine Conditioning of Polishing Pad and its Evaluation in Chemical Mechanical Polishing: Verification of SUS-FFC on Soft Urethane Foam Pad and Proposal of PEEK-FFC. International Journal of Automation Technology. 2021. 15. 6. 878-884
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MISC (7件):
  • 藤田 隆. 研究室紹介 近畿大学 先端加工システム工学研究室. 砥粒加工学会誌. 2024. 68. 8. 450-450
  • 畝田道雄, 藤田 隆, 新井雄太郎. フレキシブルファイバーコンディショナによる研磨パッド表面性状の「見える化」とそのメカニズム考察. 砥粒加工学会誌. 2023. 67. 2. 71-74
  • 藤田 隆. 革新的な微細精密加工技術の開発を目指して. 精密工学会誌. 2022. 88. 887. 566-567
  • 藤田 隆. CMP安定化のためのフレキシブルファイバーコンディショナーの開発. 月間トライボロジー. 2021. 411. 41-45
  • 藤田 隆. 層間絶縁膜CMP技術と装置・材料. 2009半導体テクノロジー大全. 2009. 4. 3. 2-5
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特許 (282件):
書籍 (4件):
  • シリコンと化合物半導体の超精密・微細加工プロセス技術 -工程別加工技術の基礎と最新動向-
    シーエムシー出版 2024 ISBN:9784781317571
  • 先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術
    (株)技術情報協会 2023 ISBN:9784861049828
  • 半導体デバイス製造を支えるCMP技術の開発動向
    サイエンス&テクノロジー株式会社 2023 ISBN:9784864283083
  • 最新 CMP技術と周辺部材
    技術情報協会 2008
講演・口頭発表等 (90件):
  • 焼結ダイヤモンド研削工具による微細鏡面加工技術
    (砥粒加工学会 関西地区部会 令和6年度第1回研究会 2024)
  • CMPプロセス技術及び次世代基板(SiC,硬質ガラス)の最新加工技術
    (情報機構セミナー 2024)
  • 半導体CMP用研磨パッドの表面状態におけるコンタクトエリアの定量的評価
    (日本機械学会関西支部第99期定時総会講演会, No.244-1, P130 2024)
  • 超音波圧電結晶の微細溝加工におけるPCD工具の切れ刃状態評価の研究
    (日本機械学会関西支部第99期定時総会講演会, No.244-1, P230 2024)
  • ファイバーコンディショナーによるCMPパッド表面の微細化処理技術の研究
    (日本機械学会関西学生会2023年度学生員卒業研究発表講演会 17PM1-3 2024)
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学位 (1件):
  • 博士(工学) (熊本大学)
経歴 (3件):
  • 2020/04 - 現在 近畿大学 理工学部機械工学科
  • 2001/11 - 2020/03 (株)東京精密
  • 1991/04 - 2001/10 住友金属工業株式会社(現 日本製鉄(株))
委員歴 (6件):
  • 2024/04 - 現在 精密工学会 校閲委員
  • 2023/04 - 現在 砥粒加工学会 関西地区部会 運営委員
  • 2022/05 - 現在 精密工学会 関西支部商議員
  • 2021/09 - 現在 日本機械学会 学生会副顧問
  • 2008/04 - 現在 精密工学会 校閲協力委員
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受賞 (9件):
  • 2024/06 - 工作機械技術振興財団 工作機械技術振興賞・奨励賞
  • 2024/05 - マザック財団 高度生産システム優秀論文賞
  • 2023/12 - 精密工学会中国四国支部 ベストプレゼンテーション賞
  • 2023/05 - マザック財団 高度生産システム優秀論文賞
  • 2020/06 - 工作機械技術振興財団 工作機械技術振興賞・論文賞
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所属学会 (4件):
日本設計工学会 ,  精密工学会 ,  砥粒加工学会 ,  日本機械学会
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