リソグラフィー装置中の主要室ガスから光源ガスを分離する装置および方法

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (4)：矢野敏雄 , 山崎利臣 , 久野琢也 , アインゼル・フェリックス=ラインハルト
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003392310
Publication number (International publication number)：2004172626
Application date： Nov. 21, 2003
Publication date： Jun. 17, 2004
Summary：

【課題】リソグラフィー装置で第1ガスと第2ガスが混合しない方法および装置を提供する。【解決手段】第3ガスを使用して第2ガスから第1ガスを分離する方法および装置であり、第1ガスにもとづく光を放射する素子を有する第1室、方法を実施するために放射した光を使用し、第2ガスを有する第2室、第1ガスと第2ガスを結合するガスロック、ガスロック中で第1ガスを第2ガスから分離するように、ガスロック中に第1ガスと第2ガスの間に第3ガスを供給するガス源を有する装置において、第1室から第1ガスおよび第3ガスを供給し、互いに分離して、第1ガスを循環させて放射した光を形成するために再利用する。【選択図】図3

Claim (excerpt)：

第1ガスにもとづく光を放射する部品を有する第1室、方法を実施するために放射した光を使用し、かつ第2ガスを有する第2室、第1ガスと第2ガスを結合するガスロック、およびガスロック中で第2ガスから第1ガスを分離するために、ガスロック中に第1ガスと第2ガスの間に第3ガスを供給するガス源を有する装置。

IPC (2)：

H01L21/027 , G03F7/20

FI (2)：

H01L21/30 531A , G03F7/20 521

F-Term (2)：

5F046GA07 , 5F046GC03

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (19)

特開昭58-225636
特開昭61-179046
特開昭62-268048

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Cited by examiner (20)

特開昭63-292553
プラズマ・フォーカス高エネルギ・フォトン・ソース
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-127187 Applicant：サイマーインコーポレイテッド
半導体製造工程用のリソグラフィ光源を提供するためのシステムおよび方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2000-617700 Applicant：アドヴァンスドエナジーシスティムズインク

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Article cited by the Patent：

Cited by applicant (1)

Mitigation of surface contamination from resist outgassing in EUV lithography

Cited by examiner (1)

Mitigation of surface contamination from resist outgassing in EUV lithography

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