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J-GLOBAL ID：200903030038162278

水性塩基現像可能なフォトレジスト組成物およびそれを用いたパターン形成方法

Inventor： アリー・アフザーリー=アルダカーニー ,  ウィリアム・ロス・ブランスヴォルド ,  ジェフリー・ドナルド・ジェローム ,  ローラ・ルイーズ・コスバー ,  ナンシー・シー・ラビアンカ ,  ニランジャン・エム・パテル ,  プシュカラ・ラーオ・ヴァラーナシー
Applicant, Patent owner： インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
Agent (1)： 坂口 博 (外1名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1998262200
Publication number (International publication number)：1999176750
Application date： Sep. 17, 1998
Publication date： Jul. 02, 1999
Summary：

【要約】【課題】 遠紫外線およびi線露光に用いる、水性塩基で現像可能な、高解像度フォトレジスト組成物を提供する。【解決手段】 本発明の組成物は、フェノールポリマー樹脂、酸触媒下でこれらの樹脂と反応することができるグリコールウリル誘導体から選択される架橋剤、光酸発生剤、および有機溶媒を含む。本発明の組成物は、高解像度(0.25マイクロメートル未満)のネガティブ・トーンのイメージを形成するのに特に有用である。

Claim (excerpt)：

フェノール樹脂またはポリマーと、グリコールウリル誘導体と、光酸発生剤とを含むフォトレジストの未硬化被膜を基板上に設けるステップと、前記被膜をイメージ通りパターンに紫外線で露光して、それによって前記パターン中に酸触媒を発生させるステップと、前記露光した被膜を90〜130°Cで1〜2分間加熱するステップと、前記フォトレジストを塩基水溶液中で現像するステップとを含むフォトレジストのパターンを形成する方法。

IPC (3)：

H01L 21/027 ,  G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 601

FI (3)：

H01L 21/30 502 R ,  G03F 7/038 501 ,  G03F 7/038 601

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (16)

• ネガ型感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-347019   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ネガ型レジスト組成物及びレジスト像の製造法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平7-098720   Applicant：日立化成工業株式会社, 株式会社日立製作所
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-121845   Applicant：日本合成ゴム株式会社
• ネガティブトーンマイクロリトグラフィックレジスト組成物及びマイクロリトグラフィックレリーフ画像形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平6-021226   Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
• レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平3-210014   Applicant：日本ゼオン株式会社
• 特開平4-367865
  
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平10-229160   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• パターン形成用レジスト積層体及びそれを用いたパターン形成方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-238224   Applicant：東京応化工業株式会社
• 電子線ネガ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-162345   Applicant：東京応化工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-193367   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 感放射線性樹脂材料及び感放射線性塗布組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-092124   Applicant：三菱化学株式会社
• ネガ型感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-074716   Applicant：ジェイエスアール株式会社
• 感光性組成物、感光性平版印刷版及び感光性平版印刷版の製版方法
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-013880   Applicant：三菱化学株式会社
• 微細パターン形成材料及びこれを用いた半導体装置の製造方法並びに半導体装置
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平9-080940   Applicant：三菱電機株式会社
• ネガ型レジスト組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-223780   Applicant：住友化学工業株式会社
• 感放射線性樹脂組成物
  Gazette classification：公開公報   Application number：特願平8-184047   Applicant：日本合成ゴム株式会社