電子線露光用マスクブランクおよびマスク

Inventor：
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：池田憲保 , 福田修一
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005155842
Publication number (International publication number)：2005340835
Application date： May. 27, 2005
Publication date： Dec. 08, 2005
Summary：

【課題】応力の経時変化が小さい、薄い膜厚のパターン支持層を得る。【解決手段】電子線を透過するパターン支持層(6)と、前記パターン支持層上に形成された電子線散乱層(5)と、前記パターン支持層と前記電子線散乱層とを支持する支持体(3)とを有する電子線露光用マスクおよびマスクブランクにおいて、前記パターン支持層が、炭素と珪素の結合から主として構成される非晶質構造の材料からなり、表面粗さが0.2(nm、Rms)以下となるように成膜された引張り応力膜である。【選択図】図10A

Claim (excerpt)：

電子線を透過するパターン支持層と、前記パターン支持層上に形成された電子線散乱層と、前記パターン支持層と前記電子線散乱層とを支持する支持体とを有する電子線露光用マスクブランクにおいて、前記パターン支持層が、炭素と珪素の結合から主として構成される非晶質構造の材料からなり、表面粗さが0.2(nm、Rms)以下となるように成膜された引張り応力膜であることを特徴とする電子線露光用マスクブランク。

IPC (3)：

H01L21/027 , G03F1/14 , G03F1/16

FI (3)：

H01L21/30 541S , G03F1/14 B , G03F1/16 B

F-Term (4)：

2H095BA08 , 2H095BC27 , 5F056AA22 , 5F056FA05

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

電子ビーム・システム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-257155 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
マスク・フィールドを備えた膜マスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平10-053012 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
シリコンステンシルマスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-064491 Applicant：株式会社ニコン

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Cited by examiner (9)

電子線描画用マスクブランクス、電子線描画用マスクおよび電子線描画用マスクの製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-156726 Applicant：ホーヤ株式会社
X線マスク用基板及びその製造方法、並びにX線マスク及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-042395 Applicant：ホーヤ株式会社, 三菱電機株式会社
X線マスク用支持膜
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-105423 Applicant：沖電気工業株式会社

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