脂環式骨格を有する高分子化合物

Inventor： ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：後藤幸久 , 壬生優子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005317700
Publication number (International publication number)：2007119696
Application date： Oct. 31, 2005
Publication date： May. 17, 2007
Summary：

【課題】耐薬品性等の安定性、親水性及び溶媒に対する溶解性に優れる高機能性高分子化合物を提供する。【解決手段】高分子化合物は、下記式(I-1)で表されるモノマー単位等を有する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

下記式(I-1)、(I-2)、(I-3)、(I-4)、(I-5)及び(I-6)

IPC (1)：

C08F 20/28

FI (1)：

C08F20/28

F-Term (22)：

4J100AL08P , 4J100AL08Q , 4J100AL08R , 4J100AL26P , 4J100BA03P , 4J100BA03R , 4J100BA10P , 4J100BA20P , 4J100BA40P , 4J100BB18P , 4J100BC09P , 4J100BC09Q , 4J100BC09R , 4J100BC53P , 4J100BC55P , 4J100BC58P , 4J100BC84P , 4J100CA05 , 4J100CA06 , 4J100DA01 , 4J100DA04 , 4J100JA38

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (3)

(共)重合体、レジスト組成物、およびパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-276560 Applicant：三菱レイヨン株式会社
5-ヒドロキシ-2,6-ノルボルナンカルボラクトン及びその(メタ)アクリル酸エステルの製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-389632 Applicant：ダイセル化学工業株式会社
2-オキサトリシクロ[4.2.1.04,8]ノナン-3-オン誘導体及びその製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-008716 Applicant：ダイセル化学工業株式会社

Cited by examiner (8)

レジスト材料及びパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-124633 Applicant：信越化学工業株式会社
ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-284643 Applicant：富士写真フイルム株式会社
新規なラクトン含有化合物、高分子化合物、レジスト材料及びパタ-ン形成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-255167 Applicant：信越化学工業株式会社

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