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J-GLOBAL ID：200903010498879382

ポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法

Inventor：
岩戸 薫

About 岩戸 薫


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004284643
Publication number (International publication number)：2006098721
Application date： Sep. 29, 2004
Publication date： Apr. 13, 2006
Summary：
【課題】PEB温度依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れたポジ型レジスト組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】ラクトン構造を有する基を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、活性光線又は放射線の照射によりフッ素置換された炭素数2または3のアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び溶剤を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)一般式(A1)で表されるラクトン構造を有する繰り返し単位を含有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、 (B)活性光線又は放射線の照射によりフッ素置換された炭素数2または3のアルカンスルホン酸を発生する化合物、及び (C)溶剤 を含有することを特徴とするポジ型レジスト組成物。
IPC (3)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 501 ,  H01L21/30 502R
F-Term (16)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB15 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025FA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (19)
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Cited by examiner (5)
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