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J-GLOBAL ID:200903022005785480
ファラデー回転子、光アイソレータ、偏光子、およびダイヤモンドライクカーボン薄膜
Inventor:
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
深見 久郎 (外4名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002082784
Publication number (International publication number):2003248193
Application date: Mar. 25, 2002
Publication date: Sep. 05, 2003
Summary:
【要約】【課題】 小型で低コストなファラデー回転子,偏光子(検光子),磁性体,ならびに光アイソレータ、複数波長にも対応できるファラデー回転子ならびに光アイソレータ、および種々の光デバイス等の小型化,低コスト化,高性能化などに有用な新しい材料を提供する。【解決手段】 光アイソレータ60bは一例として、波長選択性を有したファラデー回転子30と、DLC薄膜により形成された偏光子20および検光子40と、光に対して透明な磁性体50とを一直線上に配置することにより構成される。これらを薄膜積層技術によって一体形成することにより製造過程が簡素化され、小型で低コストな光アイソレータを製造することができる。
Claim (excerpt):
特定波長の入射光の偏光面のみを選択的に回転させる波長選択性を有したファラデー回転子であって、磁界方向に進む入射光の偏光面を回転させる磁気光学体と、少なくとも1波長の入射光を前記磁気光学体内に局在させるため、低屈折率層と高屈折率層とを交互に積層した誘電体多層膜とを備えたことを特徴とするファラデー回転子。
IPC (4):
G02B 27/28
, G02B 5/28
, G02B 5/30
, G02F 1/09 505
FI (4):
G02B 27/28 A
, G02B 5/28
, G02B 5/30
, G02F 1/09 505
F-Term (21):
2H048GA04
, 2H048GA12
, 2H048GA24
, 2H048GA33
, 2H048GA51
, 2H049BA02
, 2H049BA08
, 2H049BB66
, 2H049BC06
, 2H079AA03
, 2H079AA12
, 2H079BA02
, 2H079CA06
, 2H079DA13
, 2H079DA27
, 2H079EA12
, 2H079EA28
, 2H099AA01
, 2H099BA02
, 2H099CA02
, 2H099DA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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特開平4-104103
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赤外線用光路の作製方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平4-100482
Applicant:株式会社半導体エネルギー研究所
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撮像装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-020596
Applicant:ソニー株式会社
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磁気光学素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-154972
Applicant:株式会社リコー
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特開平4-360103
-
光アイソレータ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-170304
Applicant:京セラ株式会社
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ホログラムの製造方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-312715
Applicant:科学技術振興事業団
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特開昭62-056923
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磁気光学体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-283512
Applicant:ミネベア株式会社
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特許第5294518号
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磁気光学体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-232020
Applicant:ミネベア株式会社
-
絶縁膜の形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-106282
Applicant:株式会社アルバック
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Article cited by the Patent:
Cited by examiner (6)
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