自己形成光導波路の製造方法

Inventor： , , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：藤谷修
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007171829
Publication number (International publication number)：2009008992
Application date： Jun. 29, 2007
Publication date： Jan. 15, 2009
Summary：

【課題】自己形成光導波路形成の際に、成長端を所望方向に走査する。【解決手段】光ファイバ10aの一端10aeと同様の光ファイバ10bの一端10beを光光硬化性樹脂液11に浸した。光ファイバ10aの他端にアルゴンイオンレーザからの波長488nmのレーザ光を導入して一端10aeから光硬化性樹脂液11に照射して自己形成的に硬化物を形成すると共に、モードロックチタンサファイアレーザからの波長800nmの制御光を硬化物の成長端近傍に集光して走査した。硬化物の成長速度0.2mm/分に合わせて、制御光の集光点を速度0.2mm/分で光ファイバ10aの一端10aeと光ファイバ10bの一端10beを滑らかに繋ぐように走査し、ゆるやかに湾曲した軸状の硬化物11cを得た。【選択図】図2

Claim (excerpt)：

光軸に対して所定形状の垂直断面を有し、所定波長の硬化光を導入するための硬化光導入用導波路を用い、光硬化性樹脂液に、前記硬化光導入用導波路の射出端から前記所定波長の硬化光を導入して自己形成的に前記光硬化性樹脂液を硬化させて軸状の硬化物を形成する際に、当該硬化物の成長端近傍に、前記硬化光よりも長波長の制御光を集光し、当該制御光の集光点を走査することにより、前記硬化物の成長方向を当該制御光の走査方向に誘導することを特徴とする湾曲した自己形成光導波路の製造方法。

IPC (2)：

G02B 6/13 , G02B 6/30

FI (2)：

G02B6/12 M , G02B6/30

F-Term (11)：

2H137AB09 , 2H137BA04 , 2H137BA55 , 2H137BC31 , 2H137BC51 , 2H137EA15 , 2H147CB01 , 2H147EA19A , 2H147EA19B , 2H147FB01 , 2H147GA19

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (11)

光導波路形成方法、光導波路形成装置、光回路基板、及び電子機器
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2003-119307 Applicant：セイコーエプソン株式会社
透明材料内部の処理方法およびその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2004-043532 Applicant：独立行政法人理化学研究所
光導波路および光導波路の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-217352 Applicant：株式会社カネカ

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