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J-GLOBAL ID：200903032742825846

ネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法

Inventor：
椿 英明

About 椿 英明


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (2)： 高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2008200248
Publication number (International publication number)：2009258586
Application date： Aug. 01, 2008
Publication date： Nov. 05, 2009
Summary：
【課題】高集積かつ高精度な電子デバイスを製造するための高精度な微細パターンを安定的に形成するために、ネガ型現像によるパターニングに於いて、パターン倒れ性能が良好で、かつトレンチパターン解像性の良好なネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定構造の酸分解性繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)光酸発生剤、及び(C)溶剤を含有するネガ型現像用レジスト組成物及びこれを用いたパターン形成方法。【選択図】なし
Claim (excerpt)：
(A)一般式(nI)又は一般式(nII)で表される繰り返し単位を含有し、酸の作用によりネガ型現像液に対する溶解度が減少する樹脂、(B)光酸発生剤及び(C)溶剤を含有することを特徴とするネガ型現像用レジスト組成物。
IPC (5)：
G03F 7/038 ,  G03F 7/039 ,  G03F 7/32 ,  H01L 21/027 ,  C08F 32/04
FI (5)：
G03F7/038 601 ,  G03F7/039 601 ,  G03F7/32 ,  H01L21/30 502R ,  C08F32/04
F-Term (48)：
2H025AA02 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD01 ,  2H025AD03 ,  2H025AD07 ,  2H025BE07 ,  2H025BF29 ,  2H025BG00 ,  2H025CC20 ,  2H025FA10 ,  2H025FA12 ,  2H025FA16 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA06 ,  2H096BA11 ,  2H096EA03 ,  2H096EA05 ,  2H096EA06 ,  2H096EA07 ,  2H096EA23 ,  2H096FA01 ,  2H096GA03 ,  2H096GA08 ,  2H096JA04 ,  2H096JA08 ,  4J100AR04P ,  4J100AR11P ,  4J100BA03P ,  4J100BA15P ,  4J100BA16P ,  4J100BB17P ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC08P ,  4J100BC09P ,  4J100CA01 ,  4J100CA03 ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100CA06 ,  4J100DA01 ,  4J100DA04 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (9)
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Cited by examiner (4)
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