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J-GLOBAL ID:200903037708456582

電子顕微鏡またはX線分析装置及び試料の分析方法

Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1): 作田 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002319247
Publication number (International publication number):2004151045
Application date: Nov. 01, 2002
Publication date: May. 27, 2004
Summary:
【課題】半導体素子等の製造歩留まり向上のために必要な異物元素検査である電子線を照射して試料から発生するX線による元素分析を、高精度、高分解能、高速に実施できる電子顕微鏡またはX線分析装置及び試料の分析方法を実現することを目的とする。【解決手段】電子線の加速電圧に応じてX線計数率が1000から2000cpsになるように自動的に電流を増減する手段と、X線スペクトルの分析のためにデータベースに格納した参照スペクトルと照合する際に複数個のX線エネルギー範囲を設定し、各X線エネルギー範囲ごとに照合を実施する手段と、2個以上の異なる加速電圧の電子線で取得したX線スペクトルの比から観測される元素の分布を分析する手段を備える。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
電子源、電子ビームを集束するレンズを備える電子ビーム光学系と、電子ビーム光学系を制御する光学系制御装置と、試料を載置する試料台と、該電子ビームを該試料に照射して該試料から発生する電子を検出する電子線検出器と該試料から発生するX線を検出するX線検出器と両方の検出器からの信号を処理して、それぞれ試料の画像形成および元素分析を実施する処理装置を備える電子顕微鏡において、複数種類の標準的な物質のX線スペクトル(参照スペクトル)と各参照スペクトルに対応する物質名を含むラベルをデータとして有するデータベースを具備しており、試料のX線スペクトル(サンプルスペクトル)を前記データベース中の参照スペクトルと照合して前記サンプルスペクトルのスペクトル形状との一致度を計算し、一致度が高い前記データベース中の参照スペクトルを抽出し、抽出された参照スペクトルの前記ラベルから試料の物質を同定して分析を実施する際に、前記X線検出器のX線エネルギーに対する感度データを備え、かつ、サンプルスペクトルのピークを含むように複数個のX線エネルギー範囲を設定し、前記参照スペクトルに前記感度データを乗じた上で、前記設定したX線エネルギー範囲ごとに参照スペクトルの強度を前記サンプルスペクトルの強度に規格化して、そのサンプルスペクトルを規格化した参照スペクトルと照合し、かつ、各X線エネルギー範囲についてサンプルスペクトルと参照スペクトルとの一致度の高い順に参照スペクトルを一または複数個抽出し、そのラベルと一致度と前記規格化に用いた数値を出力する手段を有することを特徴とする電子顕微鏡。
IPC (2):
G01N23/225 ,  H01J37/252
FI (2):
G01N23/225 ,  H01J37/252 A
F-Term (29):
2G001AA03 ,  2G001BA05 ,  2G001BA07 ,  2G001BA15 ,  2G001CA01 ,  2G001CA03 ,  2G001DA01 ,  2G001DA06 ,  2G001FA01 ,  2G001FA06 ,  2G001FA25 ,  2G001GA01 ,  2G001GA04 ,  2G001GA09 ,  2G001GA11 ,  2G001JA02 ,  2G001JA11 ,  2G001KA01 ,  2G001LA11 ,  2G001MA05 ,  2G001NA07 ,  2G001NA17 ,  2G001PA01 ,  2G001PA02 ,  2G001PA07 ,  2G001QA01 ,  2G001QA02 ,  5C033PP05 ,  5C033PP06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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