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J-GLOBAL ID:200903037708456582
電子顕微鏡またはX線分析装置及び試料の分析方法
Inventor:
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
作田 康夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2002319247
Publication number (International publication number):2004151045
Application date: Nov. 01, 2002
Publication date: May. 27, 2004
Summary:
【課題】半導体素子等の製造歩留まり向上のために必要な異物元素検査である電子線を照射して試料から発生するX線による元素分析を、高精度、高分解能、高速に実施できる電子顕微鏡またはX線分析装置及び試料の分析方法を実現することを目的とする。【解決手段】電子線の加速電圧に応じてX線計数率が1000から2000cpsになるように自動的に電流を増減する手段と、X線スペクトルの分析のためにデータベースに格納した参照スペクトルと照合する際に複数個のX線エネルギー範囲を設定し、各X線エネルギー範囲ごとに照合を実施する手段と、2個以上の異なる加速電圧の電子線で取得したX線スペクトルの比から観測される元素の分布を分析する手段を備える。【選択図】 図6
Claim (excerpt):
電子源、電子ビームを集束するレンズを備える電子ビーム光学系と、電子ビーム光学系を制御する光学系制御装置と、試料を載置する試料台と、該電子ビームを該試料に照射して該試料から発生する電子を検出する電子線検出器と該試料から発生するX線を検出するX線検出器と両方の検出器からの信号を処理して、それぞれ試料の画像形成および元素分析を実施する処理装置を備える電子顕微鏡において、複数種類の標準的な物質のX線スペクトル(参照スペクトル)と各参照スペクトルに対応する物質名を含むラベルをデータとして有するデータベースを具備しており、試料のX線スペクトル(サンプルスペクトル)を前記データベース中の参照スペクトルと照合して前記サンプルスペクトルのスペクトル形状との一致度を計算し、一致度が高い前記データベース中の参照スペクトルを抽出し、抽出された参照スペクトルの前記ラベルから試料の物質を同定して分析を実施する際に、前記X線検出器のX線エネルギーに対する感度データを備え、かつ、サンプルスペクトルのピークを含むように複数個のX線エネルギー範囲を設定し、前記参照スペクトルに前記感度データを乗じた上で、前記設定したX線エネルギー範囲ごとに参照スペクトルの強度を前記サンプルスペクトルの強度に規格化して、そのサンプルスペクトルを規格化した参照スペクトルと照合し、かつ、各X線エネルギー範囲についてサンプルスペクトルと参照スペクトルとの一致度の高い順に参照スペクトルを一または複数個抽出し、そのラベルと一致度と前記規格化に用いた数値を出力する手段を有することを特徴とする電子顕微鏡。
IPC (2):
FI (2):
G01N23/225
, H01J37/252 A
F-Term (29):
2G001AA03
, 2G001BA05
, 2G001BA07
, 2G001BA15
, 2G001CA01
, 2G001CA03
, 2G001DA01
, 2G001DA06
, 2G001FA01
, 2G001FA06
, 2G001FA25
, 2G001GA01
, 2G001GA04
, 2G001GA09
, 2G001GA11
, 2G001JA02
, 2G001JA11
, 2G001KA01
, 2G001LA11
, 2G001MA05
, 2G001NA07
, 2G001NA17
, 2G001PA01
, 2G001PA02
, 2G001PA07
, 2G001QA01
, 2G001QA02
, 5C033PP05
, 5C033PP06
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (15)
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表面分析機器による分析元素の同定方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-121672
Applicant:日本電子株式会社
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試料分析装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-014923
Applicant:株式会社日立製作所
-
特開平3-108647
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特許第2872926号
-
異物の自動探索装置を備えた走査電子顕微鏡
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-290908
Applicant:株式会社日立製作所, 日立計測エンジニアリング株式会社
-
表面検査装置および方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-099244
Applicant:株式会社アドバンテスト
-
異物分析装置及び半導体製造制御装置並びに異物分析方法及び半導体製造制御方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-258399
Applicant:三菱電機株式会社
-
特開平2-047542
-
特開昭63-108253
-
欠陥参照システムによる自動パターン分類方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-216171
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
-
半導体上の欠陥材料を自動的に分析するシステム及び方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-046227
Applicant:アプライドマテリアルズインコーポレイテッド
-
蛍光X線分析用データ処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-140413
Applicant:株式会社島津製作所
-
蛍光X線分析方法およびその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-256367
Applicant:理学電機株式会社
-
蛍光X線分析装置およびこれに使用する記録媒体
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-233461
Applicant:理学電機工業株式会社
-
特公平7-040005
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