反射防止膜形成用塗布液

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (1)：服部平八
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1997256227
Publication number (International publication number)：1999084640
Application date： Sep. 05, 1997
Publication date： Mar. 26, 1999
Summary：

【要約】【課題】本発明は、反射防止効果を保持しつつ、少量の塗布で均一な塗布膜を形成できる上に、得られた塗布膜には表面欠陥の発生がなく、半導体素子を低コストでかつ歩留まりよく製造できる反射防止膜形成用塗布液を提供すること。【解決手段】レジスト膜上に反射防止膜を形成する塗布液であって、レジスト膜上に塗布した時レジスト膜との接触角が15度以下となることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。

Claim (excerpt)：

レジスト膜上に干渉防止膜を形成する塗布液であって、レジスト膜上に塗布した時レジスト膜との接触角が15度以下となることを特徴とする反射防止膜形成用塗布液。

IPC (4)：

G03F 7/004 506 , C09D 5/00 , G03F 7/11 501 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F 7/004 506 , C09D 5/00 M , G03F 7/11 501 , H01L 21/30 574

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (9)

レジスト用塗布液およびこれを用いたレジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-127272 Applicant：東京応化工業株式会社
表面反射防止コーティングフィルム
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-128453 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
レジスト用塗布液及びそれを用いたレジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-327610 Applicant：東京応化工業株式会社

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