ポジ型レジスト材料

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：小島隆司
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：1994331721
Publication number (International publication number)：1996160621
Application date： Dec. 09, 1994
Publication date： Jun. 21, 1996
Summary：

【要約】 (修正有)【構成】下記一般式(1)(式中、Qはt-ブトキシカルボニル基、t-ブトキシカルボニルメチル基、トリメチルシリル基又はテトラヒドロピラニル基を示す。nは1〜3の整数、x,mはx+m=1であるが、xは0になることはない。)で示されるシリコーンポリマーと、照射される放射線の作用により分解して酸を発生する酸発生剤との2成分を含むアルカリ水溶液で現像可能なポジ型レジスト材料に、更に窒素含有化合物を添加したことを特徴とするポジ型レジスト材料。【効果】高エネルギー線に感応し、感度、解像性に優れ、酸素プラズマエッチング耐性にも優れているため、微細なパターンを高アスペクト比で形成し得るポジ型レジスト材料を提供する。

Claim (excerpt)：

下記一般式(1)【化1】(式中、Qはt-ブトキシカルボニル基、t-ブトキシカルボニルメチル基、トリメチルシリル基又はテトラヒドロピラニル基を示す。nは1〜3の整数、x,mはx+m=1であるが、xは0になることはない。)で示されるシリコーンポリマーと、照射される放射線の作用により分解して酸を発生する酸発生剤との2成分を含むアルカリ水溶液で現像可能なポジ型レジスト材料に、更に窒素含有化合物を添加したことを特徴とするポジ型レジスト材料。

IPC (6)：

G03F 7/039 501 , G03F 7/004 501 , G03F 7/004 503 , G03F 7/029 , G03F 7/075 521 , H01L 21/027

Patent cited by the Patent：

Cited by examiner (11)

ポジ型レジスト材料
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-294009 Applicant：日本電信電話株式会社
酸感応ポリマおよびホトレジスト構造の作成方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-210073 Applicant：インターナショナル・ビジネス・マシーンズ・コーポレイション
放射線感応性樹脂組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平4-124774 Applicant：沖電気工業株式会社

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