研磨パッドおよびその製造方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004146044
Publication number (International publication number)：2005324302
Application date： May. 17, 2004
Publication date： Nov. 24, 2005
Summary：

【課題】研磨特性の高い無発泡の研磨パッドを提供する。【解決手段】固体高分子、光反応性化合物および光重合開始剤を含有する研磨パッド用感光性樹脂組成物から形成され、かつ水に対する接触角70度以下を有する。接触角の下限値は好ましくは0度であり、研磨層表面でのスラリーの良好な保持性に加えて、研磨層の親水性が大きくなって研磨中の研磨層の物性変化が大きくなる可能性を考慮して、より好ましくは30度である。研磨パッドの水に対する接触角を上記範囲内とするために、研磨パッド用感光性樹脂組成物中の固体高分子の主鎖または側鎖の少なくとも1部に親水性を有する基を含有することが好ましい。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

固体高分子、光反応性化合物および光重合開始剤を含有する研磨パッド用感光性樹脂組成物から形成され、かつ水に対する接触角70度以下を有することを特徴とする研磨パッド。

IPC (3)：

B24B37/00 , B24D13/14 , H01L21/304

FI (3)：

B24B37/00 C , B24D13/14 B , H01L21/304 622F

F-Term (7)：

3C058AA07 , 3C058AA09 , 3C058CB01 , 3C058CB03 , 3C063AA06 , 3C063BA24 , 3C063BE06

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (7)

高分子微小エレメントを含む高分子基材
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平6-506309 Applicant：ロデールインコーポレーテッド
研磨パッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-181708 Applicant：東レ株式会社
研磨パッドおよび板状材の研磨方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-187713 Applicant：旭硝子株式会社

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Cited by examiner (6)

光露光製版によって形成された表面パターンを有する重合体研磨パッド及びこれに関連する方法
Gazette classification：公表公報 Application number：特願平10-531090 Applicant：ローデルホールディングスインコーポレイテッド
研磨パッド及びその製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2000-203577 Applicant：レンゴー株式会社, 株式会社ロキテクノ, 株式会社エー・シー・イー
研磨パッド
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-181708 Applicant：東レ株式会社

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