フォトレジスト用樹脂溶液の製造方法、フォトレジスト組成物およびパターン形成方法

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Applicant, Patent owner：
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007202807
Publication number (International publication number)：2009037108
Application date： Aug. 03, 2007
Publication date： Feb. 19, 2009
Summary：

【課題】本発明は、均一なパターン形成を可能とするろ過性の良好なフォトレジスト組成物を提供することを目的とし、長期的に安定なフォトレジスト用樹脂溶液、つまり長期間保管してもろ過性能が低下しないフォトレジスト用樹脂溶液を提供する事にある。【解決手段】本発明は、酸によりアルカリ可溶となるフォトレジスト用樹脂を含む溶液を30〜90°Cにおいて、30分以上加熱熟成後、細孔径1μm以下のろ材によりろ過することを特徴とするフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法を提供する。【選択図】なし

Claim (excerpt)：

酸によりアルカリ可溶となるフォトレジスト用樹脂を含む溶液を30〜90°Cにおいて、30分以上加熱熟成後、細孔径1μm以下のろ材によりろ過することを特徴とするフォトレジスト用樹脂溶液の製造方法。

IPC (4)：

G03F 7/26 , G03F 7/039 , G03F 7/38 , H01L 21/027

FI (4)：

G03F7/26 , G03F7/039 601 , G03F7/38 501 , H01L21/30 502R

F-Term (28)：

2H025AA11 , 2H025AB16 , 2H025AC01 , 2H025AC04 , 2H025AC05 , 2H025AC08 , 2H025AD03 , 2H025BE00 , 2H025BF02 , 2H025BG00 , 2H025BJ10 , 2H025CC03 , 2H025FA17 , 2H096AA25 , 2H096BA11 , 2H096CA20 , 2H096EA02 , 2H096EA05 , 2H096EA07 , 2H096GA09 , 4D006GA07 , 4D006MA22 , 4D006MC22 , 4D006MC23 , 4D006MC30 , 4D006MC54 , 4D006PB20 , 4D006PC01

Patent cited by the Patent：

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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-364904 Applicant：富士写真フイルム株式会社
フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-032512 Applicant：三菱化学株式会社
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