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J-GLOBAL ID：200903031818122185

化学増幅型レジスト組成物及びその製造方法

Inventor：
樽谷 晋司

About 樽谷 晋司


Applicant, Patent owner：
富士フイルム株式会社

About 富士フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  矢澤 清純
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2005219198
Publication number (International publication number)：2007034049
Application date： Jul. 28, 2005
Publication date： Feb. 08, 2007
Summary：
【課題】 経時での感度変動が小さく、現像液展開性に優れたポジ型レジスト組成物の製造方法を提供する。【解決手段】 単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を含有するポジ型レジスト組成物の製造方法に於いて、単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂をイオン交換フィルターにより濾過する濾過工程を含み、好ましくは、更に、単環又は多環の脂環式炭化水素構造を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂を不溶コロイド除去フィルターで濾過する濾過工程を含むポジ型レジスト組成物の製造方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物、 (B)酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が変化する樹脂、(C)塩基性化合物、(D)界面活性剤、(E)溶剤を含有する化学増幅型レジスト組成物の製造方法において、(A)成分の溶液を準備して混合する工程を含むことを特徴とする化学増幅型レジスト組成物の製造方法。
IPC (3)：
G03F 7/26 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F7/26 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (21)：
2H025AA04 ,  2H025AA11 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ10 ,  2H025CB41 ,  2H025CC03 ,  2H025CC04 ,  2H025CC20 ,  2H025EA01 ,  2H025FA17 ,  2H096AA25 ,  2H096BA11 ,  2H096CA00 ,  2H096CA20 ,  2H096GA08
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (11)
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Cited by examiner (5)
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