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J-GLOBAL ID：200903077659935455

レジスト組成物の製造方法

Inventor：
山中 司

About 山中 司

, 
中尾 元

About 中尾 元


Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

About 富士写真フイルム株式会社


Agent (5)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛 ,  濱田 百合子
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003080678
Publication number (International publication number)：2004199019
Application date： Mar. 24, 2003
Publication date： Jul. 15, 2004
Summary：
【課題】製造時に感度の変化が小さく、レジスト膜の膜厚の均一性に優れたレジスト組成物の製造方法を提供する。【解決手段】(A1)酸分解性樹脂若しくは(A2)アルカリ可溶性樹脂、(B)光酸発生剤及び(C)有機溶剤を含有するレジスト組成物の製造方法であって、孔径0.03μm以下のフィルターを使用して濾過する工程を有し、濾過開始から濾過終了までの間のレジスト組成物の最高液温と最低液温との差を3°C以内に管理することを特徴とするレジスト組成物の製造方法。【選択図】 なし
Claim (excerpt)：
(A1)酸分解性樹脂若しくは(A2)アルカリ可溶性樹脂、(B)光酸発生剤及び(C)有機溶剤を含有するレジスト組成物の製造方法であって、孔径0.03μm以下のフィルターを使用して濾過する工程を有し、濾過開始から濾過終了までの間のレジスト組成物の最高液温と最低液温との差を3°C以内に管理することを特徴とするレジスト組成物の製造方法。
IPC (5)：
G03F7/26 ,  B01D61/14 ,  G03F7/004 ,  G03F7/039 ,  H01L21/027
FI (5)：
G03F7/26 ,  B01D61/14 500 ,  G03F7/004 501 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
F-Term (22)：
2H025AA00 ,  2H025AA01 ,  2H025AB16 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025BJ00 ,  2H025CC03 ,  2H025FA01 ,  2H025FA12 ,  2H096AA25 ,  2H096BA09 ,  2H096FA01 ,  2H096LA30 ,  4D006GA07 ,  4D006MA22 ,  4D006MC22 ,  4D006PA01 ,  4D006PB13 ,  4D006PC01
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (10)
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