半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法

Inventor： , ,
Applicant, Patent owner：
Agent (2)：小野信夫 , 高橋徳明
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2003371089
Publication number (International publication number)：2005132974
Application date： Oct. 30, 2003
Publication date： May. 26, 2005
Summary：

【課題】ロット間差の小さい品質の安定したリソグラフィー用共重合体を、効率的かつ品質の再現性を良く製造する方法を提供する。【解決手段】重合溶媒の存在下に重合開始剤を使用して、エチレン性二重結合を有する重合性化合物をラジカル重合させて半導体リソグラフィー用共重合体を製造する方法であって、ろ過用フィルター8により、液供給手段2と撹拌手段7を備えた第1の部分1aと液抜き取り手段5を備えた第2の部分1bに分けられた密閉可能な一の容器1内で、次の再沈ろ過工程によって精製することを特徴とする半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法。(1)重合反応により得られた重合反応液を、前記液供給手段2から、貧溶媒が入った容器の第1の部分に供給し、貧溶媒と接触させて固形物を再沈させる再沈工程(2)固形物が析出した液をろ過用フィルター8でろ過し、前記液抜き取り手段5から溶媒を抜き取り、析出した固形物を分離するろ過工程。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

重合溶媒の存在下に重合開始剤を使用して、エチレン性二重結合を有する重合性化合物をラジカル重合させて半導体リソグラフィー用共重合体を製造する方法であって、ろ過用フィルターにより、液供給手段と撹拌手段を備えた第1の部分と液抜き取り手段を備えた第2の部分に分けられた密閉可能な一の容器内で、次の再沈ろ過工程によって精製することを特徴とする半導体リソグラフィー用共重合体の製造方法。 (1)重合反応により得られた共重合体を含む重合反応液を、前記液供給手段から、貧溶媒が入った容器の第1の部分に供給し、貧溶媒と接触させて固形物を再沈させる再沈工程 (2)前記液抜き取り手段を開け、ここから溶媒を抜き取ることにより、工程(1)で再沈した固形物をろ過用フィルターでろ過し、固形物を分離するろ過工程

IPC (1)：

C08F6/00

FI (1)：

C08F6/00

F-Term (5)：

4J100GC07 , 4J100GC16 , 4J100GC35 , 4J100GC37 , 4J100JA37

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (19)

特開昭59-045439号公報
ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平9-043974 Applicant：富士写真フイルム株式会社
反射防止膜形成組成物
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平11-123835 Applicant：ジェイエスアール株式会社

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Cited by examiner (3)

特開昭62-126502
固体樹脂の製造方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-293408 Applicant：住友化学工業株式会社
固体樹脂の製造法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-104981 Applicant：住友化学工業株式会社

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