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J-GLOBAL ID：200903065433289854

光導波路デバイスの製造方法、光導波路デバイス並びに当該光導波路デバイスを用いたコヒーレント光源及び光学装置

Inventor：
横山 敏史

About 横山 敏史

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水内 公典

About 水内 公典


Applicant, Patent owner：
松下電器産業株式会社

About 松下電器産業株式会社


Agent (1)： 特許業務法人池内・佐藤アンドパートナーズ
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002372932
Publication number (International publication number)：2003270467
Application date： Dec. 24, 2002
Publication date： Sep. 25, 2003
Summary：
【要約】【課題】 光導波路デバイスを製造する際の光学基板の厚みを高精度に制御する。【解決手段】 まず、基板2の表面に、ストッパー部6を形成する領域(基板2の幅方向の左右両側)以外にレジストを塗布することにより、マスキングを行う。次いで、基板2の表面に、Crをスパッタ蒸着することにより、ストッパー部6を形成し、その後、レジストを除去する。紫外線硬化剤3を用いて、基板2の表面の左右一対のストッパー部6の間にMgドープLiNbO3 光学基板1を貼り付ける。このようにして非線形光学材料である光学基板1を基板2に貼り付けた後、光学基板1の研磨を行う。
Claim (excerpt)：
光学基板を所望の厚みに研磨する工程を含む光導波路デバイスの製造方法であって、前記光学基板の研磨を、前記光学基板の厚みを規制するストッパー部を用いて行うことを特徴とする光導波路デバイスの製造方法。
IPC (4)：
G02B 6/13 ,  G02F 1/377 ,  G11B 7/135 ,  G11B 7/22
FI (4)：
G02F 1/377 ,  G11B 7/135 A ,  G11B 7/22 ,  G02B 6/12 M
F-Term (21)：
2H047KA05 ,  2H047PA02 ,  2H047PA03 ,  2H047PA21 ,  2H047PA24 ,  2H047QA03 ,  2H047QA04 ,  2H047TA42 ,  2H047TA43 ,  2K002AA05 ,  2K002AB12 ,  2K002BA03 ,  2K002CA03 ,  2K002DA06 ,  2K002HA20 ,  5D119AA22 ,  5D119AA33 ,  5D119FA16 ,  5D119JA29 ,  5D119JA37 ,  5D119NA05
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (1)
  • 特許第3213235号公報
Cited by examiner (15)
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