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J-GLOBAL ID：200903071446179500

ポジ型電子線、X線又はEUV用レジスト組成物

Inventor：
水谷 一良

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安波 昭一郎

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白川 浩司

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高橋 表

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藤森 亨

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Applicant, Patent owner：
富士写真フイルム株式会社

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Agent (1)： 小栗 昌平 (外4名)
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2002060583
Publication number (International publication number)：2003177537
Application date： Mar. 06, 2002
Publication date： Jun. 27, 2003
Summary：
【要約】 (修正有)【課題】 レジストパターンプロファイル、真空チャンバー内での引き置きによる線幅変動が改善されたポジ型レジスト組成物が提供すること。【解決手段】 (a)下記一般式(X)の酸分解性基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型電子線、X線又はEUV用レジスト組成物。式(X)中、R1 、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、Wは2価の有機基を表し、R3は総炭素数11〜20の置換基を有してもよいアルキル基、総炭素数11〜30の置換基を有してもよいアリール基、総炭素数12〜30の置換基を有してもよいアラルキル基を表す。
Claim (excerpt)：
(a)下記一般式(X)で示される基を含有する構造単位を有し、酸の作用により分解してアルカリ現像液に対する溶解性が増大する樹脂、及び(b)活性放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とするポジ型電子線、X線又はEUV用レジスト組成物。【化1】式(X)中、R1 、R2は、同一でも異なっていてもよく、水素原子、炭素数1〜4のアルキル基を表し、Wは2価の有機基を表し、R3は総炭素数11〜20の置換基を有してもよいアルキル基、総炭素数11〜30の置換基を有してもよいアリール基、総炭素数12〜30の置換基を有してもよいアラルキル基を表す。
IPC (3)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 12/14 ,  H01L 21/027
FI (3)：
G03F 7/039 601 ,  C08F 12/14 ,  H01L 21/30 502 R
F-Term (35)：
2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC05 ,  2H025AC06 ,  2H025AD03 ,  2H025BE00 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  4J100AB02R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AB07R ,  4J100BA02P ,  4J100BA02R ,  4J100BA03Q ,  4J100BA04P ,  4J100BA05R ,  4J100BA12P ,  4J100BA15P ,  4J100BA15R ,  4J100BA34R ,  4J100BC03P ,  4J100BC04P ,  4J100BC04R ,  4J100BC09P ,  4J100BC43P ,  4J100CA04 ,  4J100CA05 ,  4J100FA03 ,  4J100FA19 ,  4J100JA38
Patent cited by the Patent：
Cited by examiner (13)
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