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J-GLOBAL ID:200903078080240079
レジスト樹脂用モノマーおよびそれを重合単位として含むレジスト用樹脂
Inventor:
,
,
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Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2000351365
Publication number (International publication number):2001188351
Application date: Mar. 16, 1999
Publication date: Jul. 10, 2001
Summary:
【要約】【課題】 短波長光に対する透明性が優れるとともに高いドライエッチング耐性を備え、かつアルカリ現像で解像性の良好で密着性の高いレジストパターンを形成することができる感光性組成物に用いることができるレジスト用樹脂およびそれを製造するためのモノマーの提供。【解決手段】 本発明は、5員環、6員環、及び7員環からなる群より選ばれる少なくとも2つ以上の環の組み合わせよりなる有橋脂環式骨格を構造中に含む樹脂であって、前記樹脂における有橋脂環式骨格内を構成する少なくとも1つの炭素が二重結合を介して酸素と結合しているレジスト用樹脂、およびそのようなレジスト樹脂を構成することのできるモノマー。
Claim (excerpt):
5員環、6員環、および7員環からなる群から選ばれる少なくとも2つ以上の環の組み合わせを有する有橋脂環式骨格であって、ノルボニル環、アダマンチル環、ジシクロペンタン環、トリシクロデカン環、テトラシクロドデカン環、ボルネン環、デカヒドロナフタレン環、ポリヒドロアントラセン環、トリシクレン、コレステリック環、ステロイド骨格、タンジュウサン、ジキタロイド、ショウノウ環、イソショウノウ環、セスキテルペン環、サントン環、ジテルペン環、トリテルペン環、およびステロイドサポニンからなる群から選ばれる骨格を構造中に含み、かつ有橋脂環式骨格を構成する少なくともひとつの炭素が二重結合を介して酸素と結合していることを特徴とするレジスト用樹脂。
IPC (4):
G03F 7/039 601
, C08F 20/28
, C08G 63/199
, H01L 21/027
FI (4):
G03F 7/039 601
, C08F 20/28
, C08G 63/199
, H01L 21/30 502 R
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (12)
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化学増幅型レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-279070
Applicant:三星電子株式会社
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レジスト用樹脂、化学増幅型レジスト、パターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-022919
Applicant:沖電気工業株式会社
-
グラフト共重合体及びこれを含む被覆用組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-009829
Applicant:関西ペイント株式会社
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硬化性透明樹脂組成物及び硬化透明樹脂
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-012621
Applicant:積水化学工業株式会社
-
レジスト組成物及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-312722
Applicant:富士通株式会社
-
重合性アダマンタン誘導体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-106364
Applicant:ダイセル化学工業株式会社, 石井康敬
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デバイス製造のためのパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-049956
Applicant:ルーセントテクノロジーズインコーポレイテッド
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化学増幅型ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-011581
Applicant:東京応化工業株式会社
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アルカリ現像用レジスト
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-213571
Applicant:株式会社東芝
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ポジ型感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-061449
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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ラクトン構造を有する(メタ)アクリレート誘導体、重合体、フォトレジスト組成物、及びパターン形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-188853
Applicant:日本電気株式会社
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遠紫外線露光用ポジ型フォトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-212878
Applicant:富士写真フイルム株式会社
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