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J-GLOBAL ID:200903079002203937
凝集剤およびその製造装置、製造方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
岡田 敬
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2004140243
Publication number (International publication number):2005152880
Application date: May. 10, 2004
Publication date: Jun. 16, 2005
Summary:
【課題】 シリカと金属分が含まれる凝集剤を提供する。【解決手段】 凝集剤製造装置10Aは、シリカが含まれる流体中に周期表の8族の金属イオンを導入してシリカと金属イオンとが結合した凝集剤を生成する生成手段を有する。この生成手段としては、電極対を採用することができる。このような凝集剤製造装置10にて製造されていた凝集剤の凝集効果は非常に高く、また、凝集効果の経時変化も少ない。また、この凝集剤は、シリカ分を多量に含むCMP排水を材料として生成することができる。【選択図】 図1
Claim (excerpt):
少なくとも周期表の第8族に属する金属とシリカとから成る物質を含むことを特徴とする凝集剤。
IPC (5):
B01D21/01
, C02F1/46
, C02F1/52
, C02F1/72
, C02F1/78
FI (5):
B01D21/01 102
, C02F1/46 Z
, C02F1/52 K
, C02F1/72 Z
, C02F1/78
F-Term (45):
4D015BA03
, 4D015BA11
, 4D015BA16
, 4D015BA19
, 4D015BB06
, 4D015BB13
, 4D015CA17
, 4D015CA20
, 4D015DA12
, 4D015DA30
, 4D015DA35
, 4D015DC02
, 4D015DC03
, 4D015EA35
, 4D015FA11
, 4D015FA23
, 4D050AA13
, 4D050AB55
, 4D050BB02
, 4D050BB09
, 4D050BD02
, 4D050BD03
, 4D050BD04
, 4D050BD06
, 4D050CA10
, 4D050CA15
, 4D050CA16
, 4D061DA08
, 4D061DB11
, 4D061DB15
, 4D061DB16
, 4D061DC18
, 4D061EA02
, 4D061EB05
, 4D061EB14
, 4D061EB28
, 4D061EB30
, 4D061EB37
, 4D061ED13
, 4D061FA11
, 4D061FA13
, 4D061FA14
, 4D061FA16
, 4D061GA07
, 4D061GA09
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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凝集沈殿方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-101603
Applicant:前澤工業株式会社
Cited by examiner (18)
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シリコンウエハ研磨排水の処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-096900
Applicant:オルガノ株式会社
-
水処理用凝集剤の製造、輸送、保存方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-226070
Applicant:株式会社荏原製作所
-
凝集剤の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-135375
Applicant:日鉄鉱業株式会社
-
水溶液中のシリカ除去法および有価元素回収法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-337314
Applicant:三菱マテリアル株式会社
-
流体の被除去物除去装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-324366
Applicant:三洋電機株式会社
-
特開昭61-161190
-
懸濁液の凝集沈降促進方法及びその装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-347994
Applicant:芝山嘉雄
-
特開平2-040286
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特開昭61-078490
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特公昭28-003284
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コロイド溶液の濾過方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-143780
Applicant:三洋電機株式会社
-
水処理装置およびそれを用いた水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-086381
Applicant:三洋電機株式会社
-
排水処理装置およびそれを用いた排水処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-086382
Applicant:三洋電機株式会社
-
電解凝集装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-231828
Applicant:日東電工株式会社
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CMP用研磨スラリー含有排水処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-353387
Applicant:栗田工業株式会社
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研磨粒子含有廃液の処理方法および装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-067591
Applicant:日本酸素株式会社
-
排水の濾過方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-105575
Applicant:三洋電機株式会社
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被除去物の除去方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-334261
Applicant:三洋電機株式会社
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