ウエハ載置用電極

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Applicant, Patent owner：
Agent (1)：特許業務法人武和国際特許事務所
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2007098460
Publication number (International publication number)：2008258374
Application date： Apr. 04, 2007
Publication date： Oct. 23, 2008
Summary：

【課題】電極上誘電体膜の局所的な絶縁破壊の低減による信頼性の高いウエハ載置用電極を提供すること。【解決手段】電極本体102の上に電極上誘電体膜102を備え、ここに載置したウエハ103にプラズマエッチング処理を施すためのウエハ載置用電極において、ガス導入管105とリフトピン107が電極上誘電体膜102に接している部分に中間層108を設け、この部分に低抵抗誘電体膜である電極上誘電体膜102と、高抵抗誘電体膜である中間層108による積層部分を形成させたもの。積層構造とすることでウエハ載置用電極の誘電体膜の絶縁破壊電圧を向上させた。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

内部に温度調節用の冷媒を通流させるための流路を形成した電極本体と、前記電極本体のウエハ載置面に形成した誘電体膜と、該誘電体膜と該誘電体膜上に載置された試料により形成される空隙に伝熱ガスを供給するための前記電極本体内を貫通するガス導入路を備え、前記誘電体膜上に載置したウエハを真空容器内に配置して該真空容器内に生成されたプラズマによりプラズマ処理を施すウエハ載置用電極において、前記誘電体膜の一部に、低抵抗誘電体膜と高抵抗誘電体膜の積層部分を形成させたことを特徴とするウエハ載置用電極。

IPC (2)：

H01L 21/306 , H01L 21/683

FI (2)：

H01L21/302 101R , H01L21/68 R

F-Term (7)：

5F004BB22 , 5F004BB29 , 5F004CA05 , 5F031CA02 , 5F031HA16 , 5F031HA33 , 5F031MA32

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (2)

半導体製造装置用静電チャック
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-087244 Applicant：株式会社神戸製鋼所
基板冷却装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平5-339325 Applicant：日電アネルバ株式会社

Cited by examiner (8)

静電吸着電極およびその製作方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-247537 Applicant：株式会社日立製作所
プラズマ処理装置の真空処理室内部品の帯電抑制方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2002-109189 Applicant：東京エレクトロン株式会社
ウェハ処理装置およびウェハ処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2005-028804 Applicant：株式会社日立ハイテクノロジーズ

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