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J-GLOBAL ID:200903081897705511
感光性組成物用重合体およびこれをもちいたパターン形成方法
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
佐藤 一雄 (外3名)
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):1998182641
Publication number (International publication number):2000019732
Application date: Jun. 29, 1998
Publication date: Jan. 21, 2000
Summary:
【要約】【課題】 光透過性に優れ、ドライエッチング耐性に優れ、酸触媒による反応効率が高く、かつアルカリ溶解性、基板との密着性に優れる感光性組成物と、表面粗さの小さい、優れたパターン形状が得られるパターン形成方法の提供。【解決手段】 脂環式骨格またはナフタレン骨格を有するビニル単量体、および/または(メタ)アクリル酸エステル単量体をリビング重合させることにより得られる、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比Mw/Mnで与えられる分子量分布が1.0〜1.4の共重合体と、光酸発生剤とを含んでなる感光性組成物と、それを用いた感光性材料を短波長の光で露光して現像するパターン形成方法。
Claim (excerpt):
脂環式骨格またはナフタレン骨格を有するビニル単量体、および/または(メタ)アクリル酸エステル単量体をリビング重合させることにより得られる、重量平均分子量Mwと数平均分子量Mnとの比Mw/Mnで与えられる分子量分布が1.0〜1.4の共重合体と、光酸発生剤とを含んでなることを特徴とする感光性組成物。
IPC (6):
G03F 7/039 501
, C08F 2/48
, C08L 25/02
, C08L 33/04
, C08L 45/00
, H01L 21/027
FI (6):
G03F 7/039 501
, C08F 2/48
, C08L 25/02
, C08L 33/04
, C08L 45/00
, H01L 21/30 502 R
F-Term (51):
2H025AA01
, 2H025AA02
, 2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AA09
, 2H025AA14
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AB20
, 2H025AC04
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BE10
, 2H025CB08
, 2H025CB14
, 2H025CB16
, 2H025CB41
, 2H025CB51
, 2H025CB52
, 2H025CB56
, 2H025CC20
, 2H025EA04
, 2H025FA10
, 2H025FA17
, 4J002BC011
, 4J002BG041
, 4J002BG051
, 4J002BK001
, 4J002EN136
, 4J002EQ016
, 4J002EU046
, 4J002EU186
, 4J002EV046
, 4J002EV166
, 4J002EV216
, 4J002EV236
, 4J002EV246
, 4J002EV296
, 4J002EW176
, 4J002FD156
, 4J002FD206
, 4J002GP03
, 4J011QB01
, 4J011SA79
, 4J011SA83
, 4J011SA84
, 4J011SA87
, 4J011UA01
, 4J011VA02
, 4J011WA01
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (13)
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特開平4-039965
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特開平4-039665
-
感光性材料
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-185046
Applicant:株式会社東芝
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レジスト材料及びレジストパターンの形成方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-050264
Applicant:富士通株式会社
-
レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平5-097140
Applicant:日本ゼオン株式会社
-
ホトレジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-148663
Applicant:信越化学工業株式会社
-
感光性組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-143091
Applicant:株式会社東芝
-
感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平8-352621
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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レジスト組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平3-256398
Applicant:日本ペイント株式会社
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ポジ型感光性樹脂組成物及びこれを用いた感光性エレメント
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平7-128100
Applicant:日立化成工業株式会社
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酸解離性基を有する狭分散性重合体及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-343155
Applicant:三井化学株式会社
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開環メタセシス(共)重合体の水素添加物及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-295826
Applicant:三井化学株式会社
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感放射線性樹脂組成物
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平9-347331
Applicant:ジェイエスアール株式会社
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