パターン欠陥検査方法及びその装置

Inventor： , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (2)：作田康夫 , 井上学
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2004001603
Publication number (International publication number)：2005156516
Application date： Jan. 07, 2004
Publication date： Jun. 16, 2005
Summary：

【課題】高出力のパルス光による試料へのダメージを低減しつつ高速・高感度に検査を行う。【解決手段】パルスレーザ光源3から射出された光を、擬似連続化光学系4、ビーム形成光学系5、干渉性低減光学系6を通し、変形照明光学系7で偏向されたビームをPBS8で反射し、ウェハ1に照射する。ウェハ1からの回折光は対物レンズ10で集光され、光変調ユニット9、11を通して、視野分割並列検出部12にて複数のイメージセンサに結像し、信号処理部13にて欠陥を検出する。ここで、擬似連続化光学系4は、パルス光を時分割することにより、1パルス当たりのエネルギーを低減しつつ、パルス光の総光量は維持できる光学系を有する。【選択図】図1

Claim (excerpt)：

照明光をパルス発振する照明光源と、該照明光源からパルス発振された照明光の強度を低減すると共に該照明光の光量を時間的に平均化する擬似連続化手段と、該擬似連続化手段で光量を調整された前記照明光の干渉性を低減する干渉性低減手段と、該干渉性低減手段から干渉性が低減されて射出した前記照明光を表面にパターンが形成された試料に対物レンズを介して照射する照射手段と、該照射手段により前記照明光が照射された試料から発生する回折光を結像する結像手段と、該結像手段により形成された前記試料の回折光像を撮像して画像信号を出力する画像検出手段と、該画像検出手段から出力された前記画像信号を処理して前記試料のパターンの欠陥を検出する欠陥検出手段とを備えたことを特徴とするパターン欠陥検査装置。

IPC (1)：

G01N21/956

FI (1)：

G01N21/956 A

F-Term (15)：

2G051AA51 , 2G051AA56 , 2G051AB02 , 2G051AB07 , 2G051BA10 , 2G051BB05 , 2G051BB07 , 2G051BB20 , 2G051CA02 , 2G051CA03 , 2G051CA04 , 2G051CA07 , 2G051CB01 , 2G051EA11 , 2G051EA12

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (6)

パターン検査装置及び方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平6-116202 Applicant：株式会社日立製作所
被検査パターンの欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平7-128197 Applicant：株式会社日立製作所
特開平10- 78668号公報

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Cited by examiner (9)

欠陥検査方法及びその装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-330113 Applicant：株式会社日立製作所
センサヘッド、これを具備した輝度分布測定装置、外観検査装置及び表示ムラ検査評価装置
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2001-297876 Applicant：科学技術振興事業団, 櫻井エンジニアリング株式会社
イメージスキャナー
Gazette classification：公開公報 Application number：特願平8-005728 Applicant：株式会社フォトロン

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