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J-GLOBAL ID:200903088199298682
半導体複合装置、及びこれらを用いたプリントヘッド並びに画像形成装置。
Inventor:
,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
佐藤 勝
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2005285887
Publication number (International publication number):2007096160
Application date: Sep. 30, 2005
Publication date: Apr. 12, 2007
Summary:
【課題】LEDチップには上述の様なワイヤボンド用の領域を設ける必要があった為、LEDチップの小型化に伴う材料コストの削減を実行することが極めて困難であった。【解決手段】第1の基板102上に、所定の回路領域103と、半導体薄膜105を形成し、当該半導体薄膜105は、導電層104と、個別電極108と、導電層115とによって、3端子素子構造を形成することとしている。半導体薄膜105をこの様な構成とすることで、LEDチップを小型化することができると共に、材料コストを削減することができる。【選択図】図1
Claim (excerpt):
半導体層を積層した構造を備える半導体装置において、
第1導電型、第2導電型、又はノンドープの発光層と、
前記発光層の上方に設けられ、所定のコンタクトを通じて電圧が印加され、第2導電型によって構成された第1のコンタクト層と、
前記発光層の下方に設けられ、所定のコンタクトを通じて電圧が印加され、第2導電型によって構成された第2のコンタクト層と、
前記発光層の下方、且つ、前記第2のコンタクト層の上方に設けられ、前記第2のコンタクト層と選択的にエッチング除去可能であり、第1の導電型又は第2の導電型によって構成された第1のエッチング停止層と、
前記第2のコンタクト層の下方に設けられ、所定のコンタクトを通じて電圧が印加され、第1導電型によって構成された第3のコンタクト層とを備えること
を特徴とする半導体装置。
IPC (4):
H01L 33/00
, B41J 2/44
, B41J 2/45
, B41J 2/455
FI (2):
F-Term (35):
2C162AE11
, 2C162AE21
, 2C162AE28
, 2C162AE47
, 2C162AH43
, 2C162AH53
, 2C162AH83
, 2C162AH85
, 2C162FA17
, 2C162FA23
, 5F041AA31
, 5F041AA42
, 5F041AA47
, 5F041CA04
, 5F041CA07
, 5F041CA34
, 5F041CA36
, 5F041CA37
, 5F041CA93
, 5F041CB23
, 5F041CB25
, 5F041CB33
, 5F041CB36
, 5F041DA07
, 5F041DA19
, 5F041DA20
, 5F041DA32
, 5F041DA35
, 5F041DA36
, 5F041DA39
, 5F041DA83
, 5F041DB07
, 5F041DC84
, 5F041EE16
, 5F041FF13
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (1)
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トルクコンバータのロックアップダンパー
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-361430
Applicant:株式会社エクセディ
Cited by examiner (12)
-
特開平3-241879
-
自己走査型発光素子アレイチップ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-341628
Applicant:日本板硝子株式会社
-
半導体装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-371769
Applicant:株式会社沖データ, 株式会社沖デジタルイメージング
-
半導体レーザ
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-364839
Applicant:古河電気工業株式会社
-
半導体レーザおよびその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平10-158785
Applicant:富士写真フイルム株式会社
-
半導体レ-ザ素子の選別方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-200290
Applicant:三井化学株式会社
-
光半導体装置及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-148020
Applicant:日本電信電話株式会社
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特開昭62-264661
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発光ダイオード
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平6-181619
Applicant:昭和電工株式会社
-
酸化物半導体発光素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-023991
Applicant:シャープ株式会社, 川崎雅司
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発光素子アレイの光量補正方法および光量補正装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-180945
Applicant:日本板硝子株式会社
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分子配列を有する有機半導体層の製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2003-279321
Applicant:財団法人工業技術研究院
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