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J-GLOBAL ID：201303007904489339

プラズマCVD装置及び基板加熱保持台並びにカーボンナノチューブの製造方法

Inventor：
片山 幸久

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堀 勝

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近藤 博基

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加納 浩之

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田 昭治

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山川 晃司

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Applicant, Patent owner：
トヨタ自動車株式会社

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国立大学法人名古屋大学

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株式会社片桐エンジニアリング

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Agent (3)： 山本 典輝 ,  山下 昭彦 ,  岸本 達人
Gazette classification：公開公報
Application number (International application number)：2012150910
Publication number (International publication number)：2013177284
Application date： Jul. 04, 2012
Publication date： Sep. 09, 2013
Summary：
【課題】カーボンナノチューブの成長速度を高めることが可能なプラズマCVD装置及びカーボンナノチューブの製造方法を提供する。【解決手段】真空チャンバと、該真空チャンバ内に配置された基板保持手段と、真空チャンバ内に原料ガスを導入する原料ガス導入手段と、真空チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、を有し、該プラズマ発生手段の側面が、基板保持手段側へと延びた、プラズマの流出を抑制する側面遮蔽部材によって覆われ、且つ、プラズマ発生手段の基板保持手段側に、プラズマの流出を抑制する、孔を有する端面遮蔽部材が備えられ、側面遮蔽部材と端面遮蔽部材とが接続されているプラズマCVD装置とし、プラズマ発生装置の基板保持手段側及び側面側へのプラズマの流出を抑制しながら、基板保持手段に配置した基板の表面にカーボンナノチューブを形成する、カーボンナノチューブの製造方法とする。【選択図】図1
Claim (excerpt)：
真空チャンバと、 前記真空チャンバ内に配置された基板保持手段と、 前記真空チャンバ内に原料ガスを導入する原料ガス導入手段と、 前記真空チャンバ内にプラズマを発生させるプラズマ発生手段と、を有し、 前記プラズマ発生手段の側面が、前記基板保持手段側へと延びた、プラズマの流出を抑制する側面遮蔽部材によって覆われ、且つ、前記プラズマ発生手段の前記基板保持手段側に、プラズマの流出を抑制する、孔を有する端面遮蔽部材が備えられ、 前記側面遮蔽部材と前記端面遮蔽部材とが接続されている、プラズマCVD装置。
IPC (6)：
C01B 31/02 ,  H05H 1/46 ,  B82Y 40/00 ,  C23C 16/509 ,  C23C 16/26 ,  C23C 16/02
FI (6)：
C01B31/02 101F ,  H05H1/46 A ,  B82Y40/00 ,  C23C16/509 ,  C23C16/26 ,  C23C16/02
F-Term (28)：
4G146AA11 ,  4G146BA12 ,  4G146BC09 ,  4G146BC23 ,  4G146BC25 ,  4G146BC27 ,  4G146BC33A ,  4G146BC33B ,  4G146DA16 ,  4G146DA26 ,  4G146DA34 ,  4G146DA40 ,  4K030AA10 ,  4K030AA17 ,  4K030BA27 ,  4K030CA02 ,  4K030CA12 ,  4K030DA03 ,  4K030FA03 ,  4K030JA03 ,  4K030JA05 ,  4K030JA09 ,  4K030JA10 ,  4K030JA11 ,  4K030JA16 ,  4K030KA12 ,  4K030KA15 ,  4K030KA17
Patent cited by the Patent：
Cited by applicant (12)
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Cited by examiner (12)
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