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J-GLOBAL ID:201303014832385254
基板洗浄方法、基板洗浄装置及び真空処理装置
Inventor:
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,
,
,
,
Applicant, Patent owner:
,
Agent (1):
井上 俊夫
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012040647
Publication number (International publication number):2013175681
Application date: Feb. 27, 2012
Publication date: Sep. 05, 2013
Summary:
【課題】基板表面に付着したパーティクルを高い除去率で除去することのできる技術を提供すること。【解決手段】基板であるウエハWに付着しているパーティクルについて粒径を含むパーティクル情報74を取得し、このパーティクル情報74に基づいて、洗浄用のガスの原子または分子の集合体であるガスクラスターの粒径に係わる因子例えばガス圧力を調整する。その後、ウエハWの置かれる処理雰囲気よりも圧力の高い領域から、処理雰囲気に前記洗浄用のガスを吐出し、断熱膨張により前記ガスクラスターを生成させる。このガスクラスターをウエハWの表面に垂直に照射すると、パーティクルの粒径に見合った粒径のガスクラスターにより洗浄処理を行うことができ、その結果、ウエハWの表面に回路パターンのための凹部が形成されていても凹部内のパーティクルを高い除去率で除去することができる。【選択図】 図3
Claim (excerpt):
基板に付着しているパーティクルを除去する基板洗浄方法において、
基板に付着しているパーティクルについて粒径を含むパーティクル情報を取得する工程と、
前記工程で取得されたパーティクル情報に基づいて、洗浄用のガスの原子または分子の集合体であるガスクラスターの粒径に係わる因子を調整する工程と、
その後、基板の置かれる処理雰囲気よりも圧力の高い領域から、処理雰囲気に前記洗浄用のガスを吐出し、断熱膨張により前記ガスクラスターを生成させる工程と、
前記ガスクラスターを基板の表面に垂直に照射してパーティクルを除去する工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。
IPC (1):
FI (3):
H01L21/304 645Z
, H01L21/304 648G
, H01L21/304 648A
F-Term (24):
5F157AA09
, 5F157AA73
, 5F157AA93
, 5F157AA94
, 5F157AB02
, 5F157AB12
, 5F157AB33
, 5F157AB49
, 5F157AB90
, 5F157BB22
, 5F157BB36
, 5F157BG01
, 5F157BG73
, 5F157BG82
, 5F157BH21
, 5F157CB31
, 5F157CD13
, 5F157CD16
, 5F157CE31
, 5F157CE32
, 5F157CE36
, 5F157CE63
, 5F157CF44
, 5F157DB18
Patent cited by the Patent:
Cited by applicant (5)
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基板裏面平坦化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-033483
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置および基板処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-261994
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
-
表面平滑加工用適応GCIB
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-511710
Applicant:エピオンコーポレイション
-
基板処理装置および基板処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-050304
Applicant:凸版印刷株式会社
-
基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-021150
Applicant:芝浦メカトロニクス株式会社
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Cited by examiner (9)
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基板裏面平坦化方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-033483
Applicant:東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置および基板処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-261994
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社
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表面平滑加工用適応GCIB
Gazette classification:公表公報
Application number:特願2001-511710
Applicant:エピオンコーポレイション
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クラスタービーム発生装置、基板処理装置、クラスタービーム発生方法及び基板処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-120919
Applicant:兵庫県, 東京エレクトロン株式会社
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基板処理装置および基板処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2010-050304
Applicant:凸版印刷株式会社
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基板の洗浄処理装置及び洗浄処理方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2006-021150
Applicant:芝浦メカトロニクス株式会社
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クラスタを利用した乾式洗浄装置及びその方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2000-149661
Applicant:株式会社ダサンシー・アンド・アイ
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洗浄装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-075845
Applicant:オリンパス光学工業株式会社
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高圧処理装置
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-136512
Applicant:大日本スクリーン製造株式会社, 株式会社神戸製鋼所
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