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J-GLOBAL ID:201403064112756721
太陽電池及びその製造方法
Inventor:
Applicant, Patent owner:
Agent (1):
北野 好人
Gazette classification:公開公報
Application number (International application number):2012259941
Publication number (International publication number):2014107441
Application date: Nov. 28, 2012
Publication date: Jun. 09, 2014
Summary:
【課題】青色から紫外域の光を高効率に光電変換しうる太陽電池を提供する。【解決手段】p型の半導体基板と、半導体基板上に形成されたp型GaN層、p型GaN層上に形成されたInGaN光吸収層及びInGaN光吸収層上に形成されたn型GaN層を有する柱状構造体とを有している。【選択図】図1
Claim (excerpt):
p型の半導体基板と、
前記半導体基板上に形成されたp型GaN層と、前記p型GaN層上に形成されたInGaN光吸収層と、前記InGaN光吸収層上に形成されたn型GaN層とを有する柱状構造体と
を有することを特徴とする太陽電池。
IPC (2):
FI (2):
F-Term (28):
5F045AA04
, 5F045AB14
, 5F045AB17
, 5F045AB39
, 5F045AC08
, 5F045AC12
, 5F045AC19
, 5F045AF03
, 5F045AF04
, 5F045AF09
, 5F045AF13
, 5F045AF20
, 5F045BB16
, 5F045CA13
, 5F045DA52
, 5F045DB02
, 5F151AA02
, 5F151AA08
, 5F151AA16
, 5F151CB08
, 5F151CB12
, 5F151DA01
, 5F151DA04
, 5F151DA07
, 5F151FA04
, 5F151FA14
, 5F151FA15
, 5F151GA04
Patent cited by the Patent:
Cited by examiner (11)
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III族窒化物系化合物半導体素子及びその製造方法
Gazette classification:公開公報
Application number:特願平11-092948
Applicant:豊田合成株式会社
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半導体の形成方法および半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2002-030772
Applicant:三洋電機株式会社
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窒化物系半導体素子
Gazette classification:公開公報
Application number:特願2001-239326
Applicant:三洋電機株式会社
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