基板洗浄方法、基板洗浄装置及び真空処理装置

Inventor： , , , , ,
Applicant, Patent owner： ,
Agent (1)：井上俊夫
Gazette classification：特許公報
Application number (International application number)：2012040647
Publication number (International publication number)：2013175681
Patent number：5984424
Application date： Feb. 27, 2012
Publication date： Sep. 05, 2013
Claim (excerpt)：

【請求項1】ガスクラスターを基板に照射することにより、基板に付着しているパーティクルを除去する基板洗浄方法において、基板に付着しているパーティクルについて粒径を含むパーティクル情報を取得する工程と、前記工程で取得されたパーティクル情報に基づいて、洗浄用のガスの原子または分子の集合体であるガスクラスターの粒径に係わる因子を調整する工程と、その後、基板の置かれる処理雰囲気よりも圧力の高い領域から、処理雰囲気に前記洗浄用のガスを吐出し、断熱膨張により前記ガスクラスターを生成させる工程と、前記ガスクラスターを基板の表面に垂直に照射してパーティクルを除去する工程と、を含むことを特徴とする基板洗浄方法。

IPC (1)：

H01L 21/304 ( 200 6.01)

FI (3)：

H01L 21/304 645 Z , H01L 21/304 648 G , H01L 21/304 648 A

Patent cited by the Patent：

Cited by applicant (5)

基板裏面平坦化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-033483 Applicant：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置および基板処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-261994 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
表面平滑加工用適応GCIB
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-511710 Applicant：エピオンコーポレイション

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Cited by examiner (9)

基板裏面平坦化方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2010-033483 Applicant：東京エレクトロン株式会社
基板処理装置および基板処理方法
Gazette classification：公開公報 Application number：特願2006-261994 Applicant：大日本スクリーン製造株式会社
表面平滑加工用適応GCIB
Gazette classification：公表公報 Application number：特願2001-511710 Applicant：エピオンコーポレイション

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