特許

J-GLOBAL ID：201103024730955669

液中プラズマを用いた成膜方法および液中プラズマ成膜装置

発明者： 奥田 真也 ,  合田 信弘 ,  下 俊久 ,  野村 信福 ,  豊田 洋通
出願人/特許権者： 株式会社豊田自動織機 ,  国立大学法人愛媛大学
代理人 (1件)： 大川 宏
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-143565
公開番号（公開出願番号）：特開2011-000504
出願日： 2009年06月16日
公開日（公表日）： 2011年01月06日
要約：

【課題】液中プラズマを用いて液体のみならず固体をも原料とした皮膜を基材の表面に成膜する方法において、成膜条件の大幅な変更を伴うことなく、所望の割合で固体の原料を含有する皮膜を成膜できる成膜方法を提供する。【解決手段】本発明の液中プラズマを用いた成膜方法は、第一の原料を含む固体からなるターゲットT1と基材S1とを互いに対向させて、第二の原料を含むまたは含まない液体L1中に配設する配設工程と、液体L1中にスパッタガスG1を供給して少なくともターゲットT1と基材S1との間に気相空間V1を形成する気相空間形成工程と、気相空間V1に少なくともスパッタガスG1のプラズマを発生させるプラズマ発生工程と、を経て、プラズマによりターゲットT1をスパッタリングさせて基材S1の表面に少なくとも第一の原料を堆積させる。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

第一の原料を含む固体からなるターゲットと基材とを互いに対向させて、液体中に配設する配設工程と、 前記液体中に少なくともスパッタガスを供給して前記ターゲットと前記基材との間に気相空間を形成する気相空間形成工程と、 少なくとも前記スパッタガスのプラズマを前記気相空間に発生させるプラズマ発生工程と、 を経て、前記プラズマにより前記ターゲットをスパッタリングさせて前記基材の表面に少なくとも前記第一の原料を堆積させることを特徴とする液中プラズマを用いた成膜方法。

IPC (5件)：

B01J 19/08 ,  C23C 14/34 ,  C23C 14/00 ,  H01L 21/285 ,  H05H 1/24

FI (7件)：

B01J19/08 H ,  C23C14/34 T ,  C23C14/34 S ,  C23C14/34 Z ,  C23C14/00 Z ,  H01L21/285 S ,  H05H1/24

Fターム (40件)：

4G075AA30 ,  4G075BC02 ,  4G075EB41 ,  4G075EC21 ,  4G075FB02 ,  4G075FB06 ,  4K029AA01 ,  4K029AA02 ,  4K029AA04 ,  4K029AA09 ,  4K029AA11 ,  4K029BA02 ,  4K029BA03 ,  4K029BA04 ,  4K029BA05 ,  4K029BA07 ,  4K029BA08 ,  4K029BA11 ,  4K029BA17 ,  4K029BA34 ,  4K029BA46 ,  4K029CA05 ,  4K029CA06 ,  4K029DC03 ,  4K029DC06 ,  4K029DC12 ,  4K029EA00 ,  4M104AA01 ,  4M104BB02 ,  4M104BB04 ,  4M104BB06 ,  4M104BB08 ,  4M104BB09 ,  4M104BB13 ,  4M104BB14 ,  4M104BB16 ,  4M104BB18 ,  4M104DD39 ,  4M104DD40 ,  4M104DD41

引用特許：

審査官引用 (9件)

• 液中プラズマを用いた成膜方法および液中プラズマ成膜装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-157727   出願人：株式会社豊田自動織機, 国立大学法人愛媛大学
• 液中プラズマ発生装置および薄膜形成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-313979   出願人：株式会社テクノネットワーク四国
• プラズマを発生させる方法およびプラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2002-098193   出願人：株式会社テクノネットワーク四国
• 液中プラズマ処理装置、及び液中プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-245074   出願人：本多電子株式会社, 国立大学法人名古屋大学
• 液体中プラズマ発生装置
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2007-246147   出願人：PMディメンションズ株式会社
• 多孔質膜およびその生成装置と生成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-045546   出願人：株式会社テクノネットワーク四国
• 液中プラズマ処理装置、及び液中プラズマ処理方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-217592   出願人：本多電子株式会社, 国立大学法人名古屋大学
• ダイヤモンド製造方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2006-340327   出願人：国立大学法人愛媛大学, 株式会社豊田自動織機
• 液中プラズマ反応装置、液中プラズマによる反応方法および結晶合成方法
  公報種別：公開公報   出願番号：特願2004-045545   出願人：株式会社テクノネットワーク四国