特許
J-GLOBAL ID:201303083767888881 液中プラズマを用いた成膜方法および液中プラズマ成膜装置
発明者:
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出願人/特許権者: 代理人 (1件):
大川 宏
公報種別:特許公報
出願番号(国際出願番号):特願2009-143565
公開番号(公開出願番号):特開2011-000504
特許番号:特許第5246710号
出願日: 2009年06月16日
公開日(公表日): 2011年01月06日
請求項(抜粋):
【請求項1】 第一の原料を含む固体からなるターゲットと基材とを互いに対向させて、液体中に配設する配設工程と、
前記液体中に少なくともスパッタガスを供給して前記ターゲットと前記基材との間に気相空間を形成する気相空間形成工程と、
少なくとも前記スパッタガスのプラズマを前記気相空間に発生させるプラズマ発生工程と、
を経て、前記プラズマにより前記ターゲットをスパッタリングさせて前記基材の表面に少なくとも前記第一の原料を堆積させることを特徴とする液中プラズマを用いた成膜方法。
IPC (5件):
B01J 19/08 ( 200 6.01)
, C23C 14/34 ( 200 6.01)
, C23C 14/00 ( 200 6.01)
, H01L 21/285 ( 200 6.01)
, H05H 1/24 ( 200 6.01)
FI (7件):
B01J 19/08 H
, C23C 14/34 T
, C23C 14/34 S
, C23C 14/34 Z
, C23C 14/00 Z
, H01L 21/285 S
, H05H 1/24
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