特許
J-GLOBAL ID：200903000202902354

透光性導電性膜、透光性電磁波シールド膜および光学フィルター

発明者：
岡崎 賢太郎

岡崎 賢太郎 について


出願人/特許権者：
富士写真フイルム株式会社

富士写真フイルム株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-075248
公開番号（公開出願番号）：特開2006-261315
出願日： 2005年03月16日
公開日（公表日）： 2006年09月28日
要約：
【課題】微小ゴミ付着による欠陥が少なく、メッシュパターンの形成が容易で安価に大量に製造できる透光性導電性膜を提供する。【解決手段】透明支持体上に感光層が形成された感光材料を露光することにより導電性金属部と可視光透過性部とが形成された透光性導電性膜であって、前記導電性金属部が、線幅が1μmから40μmの細線からなるメッシュパターン部と、前記メッシュパターン部に電気的に接触した枠縁部とから形成され、かつ、前記導電性金属部のメッシュパターン部および枠縁部が、前記感光材料を搬送しながら光ビームで走査することにより形成されることを特徴とする透光性導電性膜。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
透明支持体上に感光層が形成された感光材料を露光することにより、導電性金属部と可視光透過性部とが形成された透光性導電性膜であって、 前記導電性金属部が、線幅が1μmから40μmの細線からなるメッシュパターン部と、前記メッシュパターン部に電気的に接触した枠縁部とから形成され、かつ、 前記導電性金属部のメッシュパターン部および枠縁部が、前記感光材料を搬送しながら光ビームで走査することにより形成されることを特徴とする透光性導電性膜。
IPC (4件)：
H05K 9/00 ,  B32B 7/02 ,  B32B 15/04 ,  G09F 9/00
FI (5件)：
H05K9/00 V ,  B32B7/02 103 ,  B32B7/02 104 ,  B32B15/04 Z ,  G09F9/00 309A
Fターム (45件)：
4F100AB01B ,  4F100AB17B ,  4F100AB24 ,  4F100AB33B ,  4F100AK42 ,  4F100AR00A ,  4F100AT00A ,  4F100BA02 ,  4F100BA03 ,  4F100BA04 ,  4F100BA05 ,  4F100CB00C ,  4F100DC15B ,  4F100DC16B ,  4F100EH71 ,  4F100EJ15B ,  4F100GB41 ,  4F100HB00B ,  4F100JD02E ,  4F100JD08B ,  4F100JD09E ,  4F100JD10E ,  4F100JG01B ,  4F100JG03E ,  4F100JK12E ,  4F100JK17A ,  4F100JL06E ,  4F100JL10B ,  4F100JL14D ,  4F100JN01A ,  4F100JN30E ,  4F100YY00A ,  4F100YY00B ,  5E321BB23 ,  5E321BB41 ,  5E321BB44 ,  5E321CC16 ,  5E321GG05 ,  5E321GH01 ,  5G435AA16 ,  5G435BB05 ,  5G435BB06 ,  5G435BB12 ,  5G435FF08 ,  5G435GG33
引用特許：
出願人引用 (10件)
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審査官引用 (10件)
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