特許
J-GLOBAL ID：200903008633110340
感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法
発明者：
出願人/特許権者：
代理人 (4件)：
小栗 昌平
, 本多 弘徳
, 市川 利光
, 高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-095325
公開番号（公開出願番号）：特開2006-276444
出願日： 2005年03月29日
公開日（公表日）： 2006年10月12日
要約：
【課題】 90nm以下の微細パターンの形成においても、ラインエッジラフネス、現像欠陥、SEM耐性が改良された感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法を提供する。【解決手段】(A)特定のラクトン構造を有する繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、(B)他の特定のラクトン構造を有する繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物及びそれを用いたパターン形成方法。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
(A)式(I)〜(III)のいずれかで表されるラクトン構造を有する繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、
(B)式(a-1)〜(a-9)ののいずれかで表されるラクトン構造を有する繰り返し単位から選択される少なくとも1種の繰り返し単位を有し、酸の作用によりアルカリ現像液に対する溶解度が増大する樹脂、及び、
(C)活性光線又は放射線の照射により酸を発生する化合物
を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (2件)：
FI (2件)：
G03F7/039 601
, H01L21/30 502R
2H025AA03
, 2H025AA04
, 2H025AB16
, 2H025AB17
, 2H025AC04
, 2H025AC06
, 2H025AC08
, 2H025AD03
, 2H025BE00
, 2H025BG00
, 2H025FA12
