特許
J-GLOBAL ID：200903096605305280

感光性組成物、該感光性組成物に用いる化合物及び該感光性組成物を用いたパターン形成方法

発明者：
和田 健二

和田 健二 について


出願人/特許権者：
富士フイルムホールディングス株式会社

富士フイルムホールディングス株式会社 について


代理人 (4件)： 小栗 昌平 ,  本多 弘徳 ,  市川 利光 ,  高松 猛
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2005-149988
公開番号（公開出願番号）：特開2006-330098
出願日： 2005年05月23日
公開日（公表日）： 2006年12月07日
要約：
【課題】IC等の半導体製造工程、液晶、サーマルヘッド等の回路基板の製造、さらにその他のフォトファブリケーション工程などに使用される、疎密依存性、ラインエッジラフネス、パターンプロファイルに優れ、且つEUV光露光に於ける感度、溶解コントラストが改良された感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び当該感光性組成物に有用な化合物を提供する。【解決手段】活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生する化合物を含有する感光性組成物、当該感光性組成物を用いたパターン形成方法及び活性光線又は放射線の照射により特定構造の化合物を発生する化合物。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)活性光線又は放射線の照射により下記一般式(I)で表される化合物を発生する化合物を含有することを特徴とする感光性組成物。
IPC (3件)：
G03F 7/004 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (3件)：
G03F7/004 503B ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (13件)：
2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AB16 ,  2H025AB17 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BE10 ,  2H025BG00 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB43
引用特許：
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (5件)
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