特許
J-GLOBAL ID：200903012745916566

ポジ型感放射線性樹脂組成物

発明者：
清水 大輔

清水 大輔 について

, 
松村 信司

松村 信司 について


出願人/特許権者：
JSR株式会社

JSR株式会社 について


代理人 (2件)： 渡邉 一平 ,  木川 幸治
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-085513
公開番号（公開出願番号）：特開2007-264051
出願日： 2006年03月27日
公開日（公表日）： 2007年10月11日
要約：
【課題】ラインラフネス、エッチング耐性、感度、及び解像度に優れ、高精度な微細パターンを安定して形成可能なポジ型感放射線性樹脂組成物を提供する。【解決手段】(A)感放射線性酸発生剤として、所定の一般式で表されるオニウム塩と、(B)酸解離性基を有し、酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性となる、アルカリ不溶性又は難溶性の樹脂成分とを含有し、(B)樹脂成分が、特定の繰り返し単位(i)を含むものであるポジ型感放射線性樹脂組成物である。【選択図】なし
請求項（抜粋）：
(A)感放射線性酸発生剤として、下記一般式(1)及び/又は(2)で表されるオニウム塩と、 (B)酸解離性基を有し、前記酸解離性基が解離することでアルカリ可溶性となる、アルカリ不溶性又は難溶性の樹脂成分と、を含有し、 前記(B)樹脂成分が、下記繰り返し単位(i)と、下記繰り返し単位(ii)及び/又は下記繰り返し単位(iii)と、を含むものであるポジ型感放射線性樹脂組成物。 (i):下記一般式(3)で表される繰り返し単位 (ii):下記一般式(4)で表される繰り返し単位 (iii):下記一般式(5-1)〜(5-4)からなる群より選択される少なくとも一の繰り返し単位
IPC (4件)：
G03F 7/039 ,  G03F 7/004 ,  H01L 21/027 ,  C08F 212/14
FI (4件)：
G03F7/039 601 ,  G03F7/004 503A ,  H01L21/30 502R ,  C08F212/14
Fターム (27件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA03 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC06 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025BE07 ,  2H025BG00 ,  2H025CB16 ,  2H025CB17 ,  2H025CB41 ,  2H025FA17 ,  2H025FA41 ,  4J100AB02R ,  4J100AB07P ,  4J100AB07Q ,  4J100AL03Q ,  4J100AL62R ,  4J100BA03H ,  4J100BA04Q ,  4J100BA20P ,  4J100HA08 ,  4J100HA61 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (7件)
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審査官引用 (4件)
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