特許
J-GLOBAL ID:200903015726873979
集積型薄膜太陽電池の洗浄方法及びその装置
発明者:
,
,
出願人/特許権者:
代理人 (1件):
鈴江 武彦 (外6名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願平11-215177
公開番号(公開出願番号):特開2001-044466
出願日: 1999年07月29日
公開日(公表日): 2001年02月16日
要約:
【要約】【課題】出力特性,絶縁特性及び耐電圧特性が優れた集積型薄膜太陽電池を提供することにある。【解決手段】絶縁基板上に順次積層された第1電極層,半導体光電変換層及び第2電極層を含む積層体を備え,前記積層体をレーザスクライブ法により光電変換セル集積領域と周縁領域とに分離し,前記光電変換セル集積領域をレーザスクライブ法により複数の光電変換セルに分離し,複数の光電変換セルの少なくとも一部は電気的に直列に接続されている集積型薄膜太陽電池の洗浄装置であって,洗浄液を収容した洗浄槽12と,この洗浄槽12の内部に設けられ集積型薄膜太陽電池1を純水W中に浸漬した状態で搬送させるローラコンベア15と,純水Wに超音波振動を付与する超音波振動子17とを具備したことを特徴とする。
請求項(抜粋):
絶縁基板上に順次積層された第1電極層,半導体光電変換層及び第2電極層を含む積層体を備え,前記積層体をレーザスクライブ法により光電変換セル集積領域と周縁領域とに分離し,前記光電変換セル集積領域をレーザスクライブ法により複数の光電変換セルに分離し,複数の光電変換セルの少なくとも一部は電気的に直列に接続されている集積型薄膜太陽電池の洗浄方法であって,前記集積型薄膜太陽電池を洗浄液中に浸漬した状態で搬送させるとともに,前記洗浄液に超音波振動を付与し,レーザスクライブによって発生したパーティクルを除去することを特徴とする集積型薄膜太陽電池の洗浄方法。
IPC (2件):
FI (2件):
H01L 31/04 S
, B08B 3/04 B
Fターム (14件):
3B201AA02
, 3B201AB14
, 3B201BA02
, 3B201BA08
, 3B201BA14
, 3B201BB04
, 3B201BB85
, 3B201BB93
, 3B201CC12
, 5F051EA01
, 5F051EA02
, 5F051EA08
, 5F051EA16
, 5F051EA20
引用特許:
審査官引用 (14件)
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集積化薄膜太陽電池とその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平7-148847
出願人:鐘淵化学工業株式会社
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太陽電池モジュール及びその製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-257711
出願人:鐘淵化学工業株式会社
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洗浄方法及び洗浄装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-151637
出願人:スピードファムクリーンシステム株式会社
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光電変換素子の製造方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-352623
出願人:キヤノン株式会社
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レーザ加工用クリーナ
公報種別:公開公報
出願番号:特願平9-218376
出願人:富士電機株式会社
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特開昭60-110178
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特開昭60-110178
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光発電素子の形成方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-120125
出願人:キヤノン株式会社
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三次元形状測定装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-172108
出願人:東京貿易テクノシステム株式会社
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特開平3-283429
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レーザ加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-221176
出願人:株式会社富士電機総合研究所
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半導体ウエハに付着した異物の除去用粘着テ-プと除去方法
公報種別:公開公報
出願番号:特願平6-282636
出願人:日東電工株式会社
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基板乾燥装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平5-151799
出願人:日本電気株式会社
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光加工装置
公報種別:公開公報
出願番号:特願平4-316043
出願人:株式会社半導体エネルギー研究所
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