特許
J-GLOBAL ID：200903022865402006

レジスト用重合体

発明者：
百瀬 陽

百瀬 陽 について

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大竹 敦

大竹 敦 について

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三橋 隆史

三橋 隆史 について

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上田 昭史

上田 昭史 について


出願人/特許権者：
三菱レイヨン株式会社

三菱レイヨン株式会社 について


公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-295585
公開番号（公開出願番号）：特開2006-052373
出願日： 2004年10月08日
公開日（公表日）： 2006年02月23日
要約：
【課題】 本発明は、DUVエキシマレーザーリソグラフィーあるいは電子線リソグラフィー等においてレジスト組成物として用いた場合に、高感度、高解像度であり、ドライエッチング耐性が高く、現像時のディフェクトが少ないレジスト用重合体、レジスト組成物、および、このレジスト組成物を用いたパターン製造方法を提供することを目的とする。【解決手段】 特定のラクトン骨格を有する構成単位(A)と、特定の酸脱離性基を有する構成単位(B)と、特定の親水性基を有する脂環構造を含む構成単位(C)を含有するレジスト用重合体であって、分子鎖末端の少なくとも一つが下記式(1-1)〜(1-4)からなる群より選ばれる少なくとも一種であるレジスト用重合体。【化1】【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
下記式(4-1)〜(4-6)および(4-10)からなる群より選ばれる少なくとも1種であるラクトン骨格を有する構成単位(A)と、 下記式(3-1-1)、(3-2-1)、(3-3-1)、(3-4-1)、(3-5-1)、(3-6-1)および(3-7-1)からなる群より選ばれる少なくとも1種である酸脱離性基を有する構成単位(B)と、 下記式(5-1)〜(5-7)からなる群より選ばれる少なくとも1種である親水性基を有する脂環構造を含む構成単位(C)と、 を含有するレジスト用重合体であって、分子鎖末端の少なくとも一つが下記式(1-1)〜(1-4)からなる群より選ばれる少なくとも一種であるレジスト用重合体。
IPC (4件)：
C08F 220/28 ,  G03F 7/033 ,  G03F 7/039 ,  H01L 21/027
FI (4件)：
C08F220/28 ,  G03F7/033 ,  G03F7/039 601 ,  H01L21/30 502R
Fターム (28件)：
2H025AA01 ,  2H025AA02 ,  2H025AA04 ,  2H025AA09 ,  2H025AB16 ,  2H025AC04 ,  2H025AC08 ,  2H025AD03 ,  2H025CB08 ,  2H025CB14 ,  2H025CB41 ,  2H025CB45 ,  4J100AL08P ,  4J100AL08Q ,  4J100AL08R ,  4J100BA02P ,  4J100BA03R ,  4J100BA40R ,  4J100BC04P ,  4J100BC07R ,  4J100BC08R ,  4J100BC09P ,  4J100BC09R ,  4J100BC53Q ,  4J100CA05 ,  4J100DA01 ,  4J100DA05 ,  4J100JA38
引用特許：
出願人引用 (4件)
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審査官引用 (9件)
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