特許
J-GLOBAL ID：200903024639530800

ビームプロファイル検証方法

発明者：
上条 直裕

上条 直裕 について


出願人/特許権者：
株式会社リコー

株式会社リコー について


代理人 (1件)： 有我 軍一郎
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2001-203801
公開番号（公開出願番号）：特開2003-014583
出願日： 2001年07月04日
公開日（公表日）： 2003年01月15日
要約：
【要約】【課題】 ビームの光量データを関数によって表現することでビームのプロファイルを高解像で検出するとともに、複数のビームが重畳している状態でも個々のビームのプロファイルを検証することが可能なビームプロファイル検証方法を提供する。【解決手段】 画像形成装置の書込み光学系によって出射されるビームを受光する受光工程と、受光されたビームのビーム情報を格納するビーム情報格納工程と、格納されたビーム情報をビームの光量の分布を表す光量データ41に処理するとともに、光量データ41を近似する関数を光量データ41に収束するように関数を処理するビーム情報処理工程と、ビーム情報処理工程によって処理されることで光量データ41に収束した関数に基づいてビームのプロファイルを検出するビーム情報検出工程とを備える。
請求項（抜粋）：
画像形成装置の書込み光学系によって出射されるビームを受光する受光工程と、前記受光工程によって受光された前記ビームのビーム情報を格納するビーム情報格納工程と、前記ビーム情報格納工程によって格納された前記ビーム情報を前記ビームの光量の分布を表す光量データに処理するとともに、前記光量データを近似する関数を前記光量データに収束するように前記関数を処理するビーム情報処理工程と、前記ビーム情報処理工程によって処理されることで前記光量データに収束した前記関数に基づいて前記ビームのプロファイルを検出するビーム情報検出工程とを備えることを特徴とするビームプロファイル検証方法。
IPC (7件)：
G01M 11/02 ,  G01B 11/24 ,  G01J 1/02 ,  G01J 1/04 ,  G01M 11/00 ,  G02B 26/10 ,  H04N 1/036
FI (7件)：
G01M 11/02 B ,  G01J 1/02 L ,  G01J 1/04 D ,  G01M 11/00 M ,  G02B 26/10 Z ,  H04N 1/036 Z ,  G01B 11/24 K
Fターム (35件)：
2F065AA51 ,  2F065CC00 ,  2F065FF04 ,  2F065GG06 ,  2F065GG12 ,  2F065JJ03 ,  2F065JJ26 ,  2F065LL15 ,  2F065LL62 ,  2F065MM26 ,  2F065QQ17 ,  2F065QQ21 ,  2F065QQ23 ,  2F065QQ25 ,  2F065QQ26 ,  2F065QQ27 ,  2G065AA04 ,  2G065AA11 ,  2G065BA05 ,  2G065BB29 ,  2G065BB49 ,  2G065BC11 ,  2G065BC35 ,  2G065CA11 ,  2G086GG03 ,  2G086HH07 ,  2H045BA41 ,  2H045CB01 ,  2H045DA46 ,  5C051AA02 ,  5C051CA07 ,  5C051DB02 ,  5C051DB16 ,  5C051DB30 ,  5C051DE30
引用特許：
審査官引用 (15件)
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