特許
J-GLOBAL ID：200903029558994340
研磨用組成物、その調製方法及びそれを用いたウェーハの研磨方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (5件)：
曾我 道照
, 曾我 道治
, 古川 秀利
, 鈴木 憲七
, 梶並 順
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2003-128240
公開番号（公開出願番号）：特開2004-335664
出願日： 2003年05月06日
公開日（公表日）： 2004年11月25日
要約：
【課題】本発明は、pHの変化が少なく、且つ研磨速度が高く、繰り返し使用においても変化の少ない安定した研磨を行うことができ、研磨後の洗浄性を改善した研磨用組成物を提供することを目的としている。【解決手段】平均一次粒子径が15〜30nmと、60〜100nmの明確に区別できる2種類の酸化珪素粒子が、重量比において1:0.05〜1:0.3の割合で存在し、且つ研磨用組成物全体に対する酸化珪素粒子の濃度が2〜20重量%の範囲にあるコロイド溶液から成り、該コロイド溶液が、pH9.5〜10.5の間で緩衝作用を有する塩の溶解した緩衝溶液として調製されたものであることを特徴とする研磨用組成物である。【選択図】 なし
請求項（抜粋）：
平均一次粒子径が15〜30nmと、60〜100nmの明確に区別できる2種類の酸化珪素粒子が、重量比において1:0.05〜1:0.3の割合で存在し、且つ研磨用組成物全体に対する酸化珪素粒子の濃度が2〜20重量%の範囲にあるコロイド溶液から成り、該コロイド溶液が、pH9.5〜10.5の間で緩衝作用を有する塩の溶解した緩衝溶液として調製されたものであることを特徴とする研磨用組成物。
IPC (3件)：
H01L21/304
, B24B37/00
, C09K3/14
H01L21/304 622D
, B24B37/00 H
, C09K3/14 550D
, C09K3/14 550Z
3C058AA07
, 3C058CA01
, 3C058CB03
, 3C058CB10
, 3C058DA02
出願人引用 (16件)
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審査官引用 (1件)
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