特許
J-GLOBAL ID:200903043282604120
コバルト鉄系合金およびコバルト鉄系合金めっき磁性薄膜の製造方法、並びに4成分系合金およびコバルト鉄モリブデン合金めっき磁性薄膜の製造方法
発明者:
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出願人/特許権者:
代理人 (1件):
三反崎 泰司 (外1名)
公報種別:公開公報
出願番号(国際出願番号):特願2002-145479
公開番号(公開出願番号):特開2003-034891
出願日: 2002年05月20日
公開日(公表日): 2003年02月07日
要約:
【要約】【課題】 磁気特性を向上可能なコバルト鉄系合金および4成分系合金並びにコバルト鉄系合金めっき磁性薄膜およびコバルト鉄モリブデン合金めっき磁性薄膜の製造方法を提供する。【解決手段】 例えば、Co<SB>100-a-b</SB> Fe<SB>a</SB> M<SB>b</SB> (aおよびbは、0<a≦100,0≦b<100をそれぞれ満たす範囲内の質量比であり、Mはコバルトおよび鉄以外の1種以上の元素を表す。)を有する合金を含んでおり、飽和磁化が2T以上、容易軸保磁力が13×10<SP>3</SP> /(4π)A/m以下となっている。このようなコバルト鉄系合金磁性めっき薄膜は、例えば、直流電流,パルス電流,両極性パルス電流,パルス調整電流またはこれらを組み合わせためっき電流を印加するめっき処理を用いて製造される。
請求項(抜粋):
コバルト(Co)と鉄(Fe)と他の元素(M)とを含み、飽和磁化が2T以上、かつ容易軸保磁力が13×103 /(4π)A/m以下のコバルト鉄系合金(Co-Fe-M)めっき磁性薄膜の製造方法であって、1Hzのパドル速度を有すると共に電界めっき溶液を含むパドルセルに、めっき処理がされる基体を浸漬する工程を含み、前記電界めっき溶液として、(a)水素イオン濃度(pH)が2以上4以下の範囲内であり、(b)コバルトイオン、鉄イオンおよび前記他の元素イオンを提供可能な溶解塩を含み、(c)ナトリウム(Na)、カリウム(K)あるいはアンモニウムのそれぞれの塩化物、硫酸塩、酢酸塩、クエン酸塩、酒石酸塩あるいはスルファミン酸塩を含む群のうちのいずれかよりなる支持塩を含み、(d)めっき電流を発生させるために、0.1Tの磁界が印加されるものを用いることを特徴とするコバルト鉄系合金めっき磁性薄膜の製造方法。
IPC (5件):
C25D 7/00
, C25D 3/56
, C25D 5/00 101
, C25D 5/18
, G11B 5/31
FI (6件):
C25D 7/00 K
, C25D 3/56 A
, C25D 5/00 101
, C25D 5/18
, G11B 5/31 A
, G11B 5/31 C
Fターム (21件):
4K023AB18
, 4K023AB19
, 4K023BA06
, 4K023BA08
, 4K023BA15
, 4K023BA29
, 4K023DA02
, 4K023DA07
, 4K024AA15
, 4K024AB01
, 4K024BB14
, 4K024CA01
, 4K024CA02
, 4K024CA03
, 4K024CA06
, 4K024CA08
, 4K024GA16
, 5D033BA03
, 5D033CA00
, 5D033DA04
, 5D033DA31
引用特許:
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