特許
J-GLOBAL ID：200903046536633460
濃度分布マスクを用いた3次元構造体製造方法
発明者：
,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：
野口 繁雄
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2000-176252
公開番号（公開出願番号）：特開2001-356470
出願日： 2000年06月13日
公開日（公表日）： 2001年12月26日
要約：
【要約】【課題】 目的とする物品の表面形状を平滑なものとする。【解決手段】 濃度分布マスクを用いた露光により基板上に3次元構造の感光性材料パターンを形成し、その感光性材料パターンを基板に彫り写すことにより3次元構造の表面形状をもつ物品を製造する方法であり、濃度分布マスクとして、透明基板上に2次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成され、適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割され、各単位セル内の遮光パターンが感光性材料パターンの対応した位置の高さに応じた光透過量又は遮光量となるように設定されていることにより遮光パターンが構成されているものを用いる。基板上に感光性材料層を形成し、上記濃度分布マスクを用いた露光において、露光時間内にデフォーカス量を予め設定された条件で変化させつつ行なうフォトリソグラフィ工程により感光性材料パターンを形成する。
請求項（抜粋）：
濃度分布マスクを用いた露光により基板上に3次元構造の感光性材料パターンを形成し、その感光性材料パターンを前記基板に彫り写すことにより3次元構造の表面形状をもつ物品を製造する方法において、濃度分布マスクは透明基板上に2次元の光強度分布を有する遮光パターンが形成されたものであり、適当な形状及び大きさの単位セルにより隙間なく分割されており、各単位セル内の遮光パターンが前記感光性材料パターンの対応した位置の高さに応じた光透過量又は遮光量となるように設定されていることにより前記遮光パターンが構成されているものであり、前記基板上に感光性材料層を形成し、前記濃度分布マスクを用いた露光において、露光時間内にデフォーカス量を予め設定された条件で変化させつつ行なうフォトリソグラフィ工程により前記感光性材料パターンを形成することを特徴とする3次元構造体製造方法。
IPC (5件)：
G03F 1/08
, G02B 3/00
, G03F 7/24
, B29K105:32
, B29L 11:00
G03F 1/08 D
, G02B 3/00 A
, G02B 3/00 Z
, G03F 7/24 Z
, B29K105:32
, B29L 11:00
2H095BA12
, 2H095BB02
, 2H095BB36
, 2H097AA16
, 2H097BB01
, 2H097CA17
, 2H097JA02
, 2H097LA15
