特許
J-GLOBAL ID：200903049271158267

露光装置及び方法

発明者：
河野 道生

河野 道生 について


出願人/特許権者：
キヤノン株式会社

キヤノン株式会社 について


代理人 (1件)： 藤元 亮輔
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2004-034462
公開番号（公開出願番号）：特開2005-228846
出願日： 2004年02月12日
公開日（公表日）： 2005年08月25日
要約：
【課題】 所望の有効光源の形状を簡易かつ正確に設定する露光装置及び方法を提供する。【解決手段】 露光光を利用して、レチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体に転写する露光装置であって、有効光源の形状を決定する光学素子と、前記光学素子を駆動する駆動部と、前記有効光源の形状又はそれに対応する前記露光光の形状を測定する測定手段と、前記測定手段の測定結果に基づいて、前記駆動部による前記光学素子の駆動を制御して前記有効光源の形状を調節する制御部とを有することを特徴とする露光装置を提供する。【選択図】 図1
請求項（抜粋）：
露光光を利用して、レチクルに形成されたパターンを投影光学系を介して被処理体に転写する露光装置であって、 有効光源の形状を決定する光学素子と、 前記光学素子を駆動する駆動部と、 前記有効光源の形状又はそれに対応する前記露光光の形状を測定する測定手段と、 前記測定手段の測定結果に基づいて、前記駆動部による前記光学素子の駆動を制御して前記有効光源の形状を調節する制御部とを有することを特徴とする露光装置。
IPC (1件)：
H01L21/027
FI (2件)：
H01L21/30 515D ,  H01L21/30 516C
Fターム (10件)：
5F046BA04 ,  5F046BA05 ,  5F046CB05 ,  5F046CB10 ,  5F046CB12 ,  5F046CB23 ,  5F046DA01 ,  5F046DA12 ,  5F046DB01 ,  5F046DC06
引用特許：
出願人引用 (3件) 審査官引用 (10件)
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