パターン形成装置、パターン形成方法およびパターン形成用モールド

発明者： , ,
出願人/特許権者：
代理人 (1件)：長尾達也
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2006-230222
公開番号（公開出願番号）：特開2007-139752
出願日： 2006年08月28日
公開日（公表日）： 2007年06月07日
要約：

【課題】モールドの転写パターンが形成された加工面を含む表面と、被加工部材である基板との間の空間的な位置関係を正確に計測することが可能となるパターン形成装置、パターン形成方法およびパターン形成用モールドを提供する。【解決手段】モールドの加工面に形成されたパターンを、被加工部材に転写するパターン形成装置を、つぎのような距離計測機構を有する構成とする。すなわち、距離計測機構106〜111を、前記モールドの加工面から後退した位置にあり、且つ前記モールドの加工面と対向した計測基準面を介し、前記計測基準面と前記基板表面との間の距離を計測できる構成とする。そして、前記計測結果と前記計測基準面と加工面の間の厚みに基づいて、前記モールドの加工面と前記基板表面との間の距離を計測可能とする。【選択図】図1

請求項（抜粋）：

モールドと被加工部材とを合わせて、モールドの加工面に形成されたパターンを、前記被加工部材に転写するパターン形成装置であって、前記モールドの加工面から後退した位置にあり、且つ前記モールドの加工面と対向した計測基準面を介し、前記計測基準面と前記被加工部材を構成する基板表面との間の距離を計測し、前記計測基準面と前記加工面の間の厚みと前記計測結果に基づいて、前記モールドの加工面と前記基板表面との間の距離を計測可能に構成した距離計測機構を有することを特徴とするパターン形成装置。

IPC (5件)：

G01B 11/00 , H01L 21/027 , G03F 7/20 , B82B 3/00 , B29C 59/02

FI (5件)：

G01B11/00 B , H01L21/30 502D , G03F7/20 501 , B82B3/00 , B29C59/02 B

Fターム (24件)：

2F065AA06 , 2F065BB02 , 2F065FF51 , 2F065GG00 , 2F065GG04 , 2F065GG24 , 2F065JJ26 , 2F065LL46 , 2F065LL67 , 2F065QQ23 , 2F065QQ25 , 2H097AA20 , 4F209AD08 , 4F209AF01 , 4F209AG05 , 4F209AH33 , 4F209AR07 , 4F209PA02 , 4F209PB01 , 4F209PC01 , 4F209PC05 , 4F209PN06 , 4F209PN13 , 5F046AA28

引用特許：

出願人引用 (1件)

米国特許第6696220号明細書

審査官引用 (16件)

転写装置及び転写方法
公報種別：公開公報出願番号：特願2000-289792 出願人：株式会社東芝
電界を使用して光硬化可能な組成物内にナノスケール・パターンを作製するための方法およびシステム
公報種別：公表公報出願番号：特願2004-566379 出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム
転写リソグラフィのための高分解能オーバレイ・アライメント方法およびシステム
公報種別：公表公報出願番号：特願2002-514472 出願人：ボード・オブ・リージエンツ,ザ・ユニバーシテイ・オブ・テキサス・システム

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