特許
J-GLOBAL ID：200903058029958657
反射防止膜及びその形成方法
発明者：
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出願人/特許権者：
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代理人 (1件)：
高石 橘馬
公報種別：公開公報
出願番号（国際出願番号）：特願2009-043003
公開番号（公開出願番号）：特開2009-237551
出願日： 2009年02月25日
公開日（公表日）： 2009年10月15日
要約：
【課題】適度な屈折率を有し、かつ広い波長範囲の光線に対する反射防止性、耐擦傷性、基材に対する密着性、機械的強度及び耐湿性に優れた反射防止膜、及びその形成方法を提供する。【解決手段】基材1又はその上に形成された緻密膜の表面に形成されたメソポーラスシリカナノ粒子が集合してなるメソポーラスシリカ多孔質膜20からなり、1.10超〜1.35以下の屈折率を有する反射防止膜2。【選択図】図1
請求項（抜粋）：
基材の表面に形成されたメソポーラスシリカナノ粒子が集合してなるメソポーラスシリカ多孔質膜からなり、1.10超〜1.35以下の屈折率を有することを特徴とする反射防止膜。
IPC (2件)：
FI (2件)：
Fターム (9件)：
2K009AA02
, 2K009CC09
, 2K009DD02
, 2K009DD03
, 5D789AA32
, 5D789AA43
, 5D789JA43
, 5D789JA65
, 5D789NA05
